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金属学报  1998, Vol. 34 Issue (2): 119-122    
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NiTi形状记忆薄膜的力学性能
宫峰飞;沈惠敏;王业宁;姜恩永
天津大学应用物理系;天津;300072;南京大学固体微结构国家重点实验室;南京;210008;南京大学固体微结构国家重点实验室;南京;210008;南京大学固体微结构国家重点实验室;南京;210008;天津大学应用物理系;天津;300072
MECHANICAL PROPERTIES OF NiTi SHAPE MEMORY THIN FILMS
GONG Fengfei;SHEN Huimin;WANG Yening;JIANG Enyong (Department of Applied Physics; Tianjin University; Tianjin 300072)(National Laboratory of Solid State Microotructures; Nanjing University) Nanjing 210008)
引用本文:

宫峰飞;沈惠敏;王业宁;姜恩永. NiTi形状记忆薄膜的力学性能[J]. 金属学报, 1998, 34(2): 119-122.
, , , . MECHANICAL PROPERTIES OF NiTi SHAPE MEMORY THIN FILMS[J]. Acta Metall Sin, 1998, 34(2): 119-122.

全文: PDF(388 KB)  
摘要: 利用直流或射频磁控溅射法溅射沉积非晶NiTi合金薄膜研究了550℃晶化热处理0.5h的51.6%Ni-Ti形状记忆薄膜的力学性能.弯曲和拉伸实验结果表明:自由状态的NiTi薄膜具有良好的形状记忆效应.形状记忆的恢复率几乎接近100%.与相同组分和相同热处理条件下的块体合金材料的形状记忆性能的实验数据相比较是相当的.
关键词 磁控溅射法NiTi薄膜力学性能    
Abstract:The amorphous NiTi thin films were fabricated by dc/ac magnetron sputtering.Mechanical properties of 51.6%Ni-Ti thin films annealed at 550 ℃ for 0.5 h were studied. Bend deformation and stress/strain experimental results indicated that the free-standing NiTi thin films have good shape memory effect, and the recovery rate of shape memory was nearly 100%. The shape memory properties of the film and bulk NiTi alloy are approximately at the same level.
Key wordsmagnetron sputtering    NiTi thin film    mechanical property
收稿日期: 1998-02-18     
基金资助:国家自然科学基金!59672024
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