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金属学报  1996, Vol. 32 Issue (9): 949-954    
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离子注入Y~+对镍基合金渗铝层1100℃氧化膜生长应力的影响
辛丽;李美栓;李铁藩
中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀与防护国家重点实验室
INFLUENCES OF Y~+-IMPLANTATION ON GROWTH STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ON ALUMINIZED Ni-BASE ALLOY
XIN Li; LI Meishuan; LI Tiefan (Corrosion Science Laboratory; Institute of Corrosion and Protection of Metals; Chinese Academy of Sciences; Shenyang 110015)
引用本文:

辛丽;李美栓;李铁藩. 离子注入Y~+对镍基合金渗铝层1100℃氧化膜生长应力的影响[J]. 金属学报, 1996, 32(9): 949-954.
, , . INFLUENCES OF Y~+-IMPLANTATION ON GROWTH STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ON ALUMINIZED Ni-BASE ALLOY[J]. Acta Metall Sin, 1996, 32(9): 949-954.

全文: PDF(448 KB)  
摘要: 利用氧化膜应力原位测量装置研究了离子注入1×10~(17),1×10~(16)Y~+/cm~2对Ni-15Cr-6Al合金渗铅层氧化膜恒温生长应力的影响.结果表明,离子注入上述二种剂量的Y~+对合金渗铝层在1100℃的氧化动力学没有显著影响,但降低了氧化膜的恒温生长应力.通过对实验结果进行分析,认为离子注入Y~+降低Al_2O_3膜的生长应力,增强氧化膜的粘附性的原因在于改变了氧化膜的生长机制和促进了膜的塑性变形能力.
关键词 镍基合金氧化生长应力离子注入渗铝    
Abstract:The influences of implanted yttrium with doses of 1×10~(17), 1×10~(16)Y~+/cm~2 on the growth stress of oxide scales formed on aluminized Ni-15Cr-6Al alloy were studied by using apparatus of oxide scale stress measurement. The experimental results indicated that Y~+-implantation at the two doses had no effects on the oxidation kinetics of the alloy, but decreased the growth stress in the oxide scale formed at 1100℃. The results are discussed. The reason that ion implantation with two doses decreases the growth stress and improves the adhension of alumina scale may be that Y~+- implantation changes the oxidation mechanism of the scale and facilitates the plastic deformation of the scale.
Key words oxidation    growth stress    Y~+-implantation    aluminized Ni-based alloy
收稿日期: 1996-09-18     
基金资助:国家自然科学基金
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