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金属学报  2003, Vol. 39 Issue (2): 126-130     
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MoSi2高温氧化层的微观结构
常春;李木森;陈传中;田雷言
山东大学材料科学与工程学院; 济南 250061
Microstructure of High-Temperature Oxidation Layer of Molybdenum Disilicide
CHANG Chun; LI Musen; CHEN Chuanzhong; TIAN Leiyan
College of Materials Science and Engineering; Shandong University; Jinan 250061
引用本文:

常春; 李木森; 陈传中; 田雷言 . MoSi2高温氧化层的微观结构[J]. 金属学报, 2003, 39(2): 126-130 .
, , , . Microstructure of High-Temperature Oxidation Layer of Molybdenum Disilicide[J]. Acta Metall Sin, 2003, 39(2): 126-130 .

全文: PDF(217 KB)  
摘要: 采用SEM, TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下, 氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成, 致密度较差. 1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英, 氧化层较薄. 在1520℃以上, 氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英, 氧化层致密而均匀, 增强了材料的抗氧化性能.
关键词 MoSi2微观结构氧化层    
Key words
收稿日期: 2002-04-15     
ZTFLH:  TG111  
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