金属学报  1999, Vol. 35 Issue (4): 439-442

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射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

郭建东 李银安　赵汝文 王恩哥

中国科学院物理研究所表面物理国家重点实验室; 北京 100080

郭建东; 李银安; 赵汝文; 王恩哥 . 射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质[J]. 金属学报, 1999, 35(4): 439-442 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(304 KB)   摘要: 利用反应性质频磁控溅射在Ｓｉ（１００）单晶衬底上沉积氮化碳薄膜, 并系统地了薄膜的结构, 成分及化学键等信息. Ｘ射线衍射分析表明, 制备的氮化碳薄膜具有非晶结构. 红外吸收谱说明薄膜中碳, 氮原子结构成化学键. 关键词 ： 氮化碳薄膜,  射频磁控溅射,  沉积,  结构     Key words： 收稿日期: 1998-12-01      ZTFLH:  O484.1   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 郭建东 李银安 赵汝文 王恩哥 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y1999/V35/I4/439 [1] Cohen M L. Phys Rev,1985; B32: 7988 I2] Liu A Y, Cohen M L. Phys Red, 1990; B41: 10727 [3] Wang E G. Prog Mater Set, 1998; 41: 241 [4] Zhang Z B, Li Y A, Xie S S, Yang G Z. Chin Phys Lett, 1996;13: 69 [5] Yen T Y, Chou C P. APPI Phes Lett, 1995; 67: 2801 [6] Chen Y, Guo L P, Wang E G. Philos Mag Lett, 1997; 75:155 [7] Wang E G, Chen Y, Guo L P, Chen F. Set Chin, 1997; 40:658, 967 [8] Nahayama N, Tsuchiya Y, Tamada S, Kosugh K, Nagata S,Takahiro K, Yamaguchi S. Jpn J Appl Phys, 1993; 32: 1465 [9] Zhao X A, Ong C W, Tsang Y C, Wong Y W, Chan P W,Choy C L. Appl Phal Lett, 1995; 66: 2652 [10] Sharma A K, Ayyub P, Multani M S, Adhi K P, Ogale SB, Sunderaraman M, Upadhyay D D, Banerjee S. Appl PhysLett, 1996; 69: 3489 [11] Efstathiadis H, Akkerman Z, Smith F W. Mater Res SympProc,1997; 446: 395 [12] Kumar S, Butcher K S, Tansley T L. J Vac Sci Technol,1996; A14: 2687 [13] Veprek S, Weidmann J, Glatz F. J Vac Set Technol,1995;A13: 2914 [14] Han H X, Feldman B J. Solid State Commun, 1988; 65: 921 [15] Bousetta A, Lu M, Schultz A. Appl Phes Lett, 1994; 65: 696 [16] Kouvetakis J, Bandari A, Todd M, Wilkens B, Cave N. ChemMated 1994; 6: 811 [17] Zhao R A. Master Theals, Institute of Physica, The ChineseAcademy of Sciences, 1996(赵日安.中国科学院物理研究所硕士学位论文,1996) [18] Wang X, Martin P J. Appl Phys Lett, 1996; 68: 1177 [19] Marton D, Boyd K J, Al-Bayati A H, Todorov S S, RabalaisJ W. Phys Rev Lett, 1994; 73: 118 [20] Sjostrom H, Hultman L. Sundgren J-E, Hainsworth S V,Page T F, Theunissen G S A M. J Vac Sei Technol, 1996;A14: 56 [21] Matsumoto O, Kotaki T, Shikano H, Takemura K, TanakaS. J Electmihetn Soc, 1994; 141: L16F [1] 袁江淮, 王振玉, 马冠水, 周广学, 程晓英, 汪爱英. Cr2AlC涂层相结构演变对力学性能的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(7): 961-968. [2] 李谦, 刘凯, 赵天亮. 弹性拉应力下Q235碳钢在5%NaCl盐雾中的成锈行为及其机理[J]. 金属学报, 2023, 59(6): 829-840. [3] 张德印, 郝旭, 贾宝瑞, 吴昊阳, 秦明礼, 曲选辉. Y2O3 含量对燃烧合成Fe-Y2O3 纳米复合粉末性能的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(6): 757-766. [4] 王寒玉, 李彩, 赵璨, 曾涛, 王祖敏, 黄远. 基于纳米活性结构的不互溶W-Cu体系直接合金化及其热力学机制[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 679-692. [5] 刘满平, 薛周磊, 彭振, 陈昱林, 丁立鹏, 贾志宏. 后时效对超细晶6061铝合金微观结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 657-667. [6] 邵晓宏, 彭珍珍, 靳千千, 马秀良. 镁合金LPSO/SFs结构间{\mathrm{10}\overline{\mathrm{1}}\mathrm{2}}孪晶交汇机制的原子尺度研究[J]. 金属学报, 2023, 59(4): 556-566. [7] 李谦, 孙璇, 罗群, 刘斌, 吴成章, 潘复生. 镁基材料中储氢相及其界面与储氢性能的调控[J]. 金属学报, 2023, 59(3): 349-370. [8] 刘来娣, 丁彪, 任维丽, 钟云波, 王晖, 王秋良. DZ445镍基高温合金高温长时间氧化形成的多层膜结构[J]. 金属学报, 2023, 59(3): 387-398. [9] 王虎, 赵琳, 彭云, 蔡啸涛, 田志凌. 激光熔化沉积TiB2 增强TiAl基合金涂层的组织及力学性能[J]. 金属学报, 2023, 59(2): 226-236. [10] 高晗, 刘力, 周笑宇, 周心怡, 蔡汶君, 周泓伶. Ti6Al4V表面微纳结构的制备及生物活性[J]. 金属学报, 2023, 59(11): 1466-1474. [11] 陈斐, 邱鹏程, 刘洋, 孙兵兵, 赵海生, 沈强. 原位激光定向能量沉积NiTi形状记忆合金的微观结构和力学性能[J]. 金属学报, 2023, 59(1): 180-190. [12] 杨超, 卢海洲, 马宏伟, 蔡潍锶. 选区激光熔化NiTi形状记忆合金研究进展[J]. 金属学报, 2023, 59(1): 55-74. [13] 方远志, 戴国庆, 郭艳华, 孙中刚, 刘红兵, 袁秦峰. 激光摆动对激光熔化沉积钛合金微观组织及力学性能的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(1): 136-146. [14] 韩冬, 张炎杰, 李小武. 短程有序对高层错能Cu-Mn合金拉-拉疲劳变形行为及损伤机制的影响[J]. 金属学报, 2022, 58(9): 1208-1220. [15] 解磊鹏, 孙文瑶, 陈明辉, 王金龙, 王福会. 制备工艺对FGH4097高温合金微观组织与性能的影响[J]. 金属学报, 2022, 58(8): 992-1002. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed