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金属学报  1996, Vol. 32 Issue (3): 308-312    
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超薄铝膜电导特性的原位测量研究
唐兆麟;黄荣芳;闻立时
中国科学院金属研究所
IN SITU MEASUREMENT OF ELECTRIC CONDUCTIVITY OF ULTRA THIN Al FILM
TANG Zhaolin; HUANG Rongfang; WEN Lishi(Institute of Metal Research;Chinese Academy of Sciences; Shenyang 110015) (Manuscript received 1995-05-04; in revised form 1995-08- 15)
引用本文:

唐兆麟;黄荣芳;闻立时. 超薄铝膜电导特性的原位测量研究[J]. 金属学报, 1996, 32(3): 308-312.
, , . IN SITU MEASUREMENT OF ELECTRIC CONDUCTIVITY OF ULTRA THIN Al FILM[J]. Acta Metall Sin, 1996, 32(3): 308-312.

全文: PDF(350 KB)  
摘要: 在真空室内原位测量了磁控溅射超薄铝膜的电阻率和薄膜厚度之间的关系以及各种工艺参数对其影响,薄膜的不同厚度阶段,具有不同的导电特性。分析表明:表面和晶界对传导电子的散射是构成薄膜电阻率尺寸效应的原因.
关键词 超薄膜电导率尺寸效应    
Abstract:The electric conductivity of sputtered ultrathin Al films as a function of thickness has been measured in situ during vacuum deposition process. At different stages of growth, the films have the different electric conductivity characteristics. Therotical analysis showed that surface scattering and grain boundary scattering played a main role in size effect of resistivity. Correspondent: TANG Zhaolin, Institute of Corrosion and Protection of Metals, Chinese Academy of Scicnces,Shenyang 110015
Key words ultrathin film    electric conductivity    size effect
收稿日期: 1996-03-18     
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