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金属学报  2001, Vol. 37 Issue (10): 1079-1082     
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纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化
付广艳  牛焱
沈阳化工学院机械工程系;沈阳1100121
引用本文:

付广艳; 牛焱 . 纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化[J]. 金属学报, 2001, 37(10): 1079-1082 .

全文: PDF(151 KB)  
摘要: 溅射纳米晶Cu-Cr合金涂层在700-800℃纯氧和空气中氧化后均形成了单一的Cr2O3膜,但两种气氛下生成的Cr2O3膜的形貌及合金的氧化增重不同,这主要与气氛中的氧分压不同及纳米晶Cr2O3膜的生长机制有关.
关键词 纳米晶Cu-Cr涂层氧化    
Key words
收稿日期: 2000-12-25     
ZTFLH:  TG172.82  
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