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金属学报  2006, Vol. 42 Issue (8): 861-864     
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脉冲偏压电弧离子镀鞘层尺度演化的特性与分析
戚栋; 王宁会; 林国强; 董闯
大连理工大学 电气工程系
THE CHARACTERISTICS AND ANALYSIS OF THE SHEATH SCALING EVOLUTION IN PULSED BIAS ARC ION PLATING
Dong Qi;;;
大连理工大学 电气工程系
引用本文:

戚栋; 王宁会; 林国强; 董闯 . 脉冲偏压电弧离子镀鞘层尺度演化的特性与分析[J]. 金属学报, 2006, 42(8): 861-864 .
, , , . THE CHARACTERISTICS AND ANALYSIS OF THE SHEATH SCALING EVOLUTION IN PULSED BIAS ARC ION PLATING[J]. Acta Metall Sin, 2006, 42(8): 861-864 .

全文: PDF(513 KB)  
摘要: 基于一维平板鞘层模型, 建立了脉冲偏压电弧离子镀(PBAIP)鞘层随时间演化的动力学模型, 给出了其解析表达式, 并结合PBAIP工艺中等离子体参数的测量结果, 模拟分析了PBAIP鞘层的厚度和鞘层中的离子流密度随时间的演化规律及其受脉冲偏压幅度等参数的影响. 结果表明: 在PBAIP工艺中, 稳态鞘层的厚度及形成稳态鞘层的时间均远小于已报道的等离子体源注入(PSII)等鞘层对应的值;PBAIP鞘层的扩展几乎是实时跟随脉冲偏压的变化, 脉冲偏压下每一时刻的鞘层厚度与对应直流偏压下的鞘层厚度几乎相等.
关键词 脉冲偏压电弧离子镀(PBAIP)鞘层演化    
Abstract:Based on a one-dimensional planar sheath model, the kinetic model of pulsed bias arc ion plating (PBAIP) sheath according to temporal evolvement and its analytic expression are presented. Combining the measuring results of plasma parameters in PBAIP process, temporal evolvement disciplinarian of the thickness of PBAIP sheath and ion current density in the sheath, and the effect of pulsed bias magnitude on sheath thickness and ion current are simulated and analyzed. The results indicate that both the thickness of stable-state sheath and the time of sheath formation are far less than the values reported by PSII. The expanding of the PBAIP sheath almost follows the real-time change of pulsed bias voltage, and the sheath thickness under pulsed bias voltage nearly equals to that under DC bias voltage. The results are helpful for making the most of advantages of PBAIP and improvement of its process control.
Key wordspulsed bias arc ion plating (PBAIP)    sheath    evolution    numerical simulation
收稿日期: 2005-11-07     
ZTFLH:  O539  
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