金属学报  1994, Vol. 30 Issue (17): 233-237

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直流磁控溅射沉积(Ti,Al)N膜的研究

蒋生蕊;彭栋梁;赵学应;谢亮;李强

兰州大学

STUDY OF (Ti,Al)N FILMS DEPOSITED BY DC MAGNETRON SPUTTERING

JIANG Shengrui; PENG Dongliang; ZHAO Xueying; XIE Liang; LI Qiang(Lanzhou University)

蒋生蕊;彭栋梁;赵学应;谢亮;李强. 直流磁控溅射沉积(Ti,Al)N膜的研究[J]. 金属学报, 1994, 30(17): 233-237.
, , , , . STUDY OF (Ti,Al)N FILMS DEPOSITED BY DC MAGNETRON SPUTTERING[J]. Acta Metall Sin, 1994, 30(17): 233-237.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(283 KB)   摘要: 研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有优良高温抗氧化性能的原因． 关键词 ： （Ｔｉ,  Ａｌ）Ｎ薄膜,  磁控溅射,  高温氧化     Abstract：Deposition technique of (Ti,Al)N films sputtered in the Ar＋N2 atmosphere using reactive DC magnetron method was studied. The hardness, wear resistance and oxidation resistance of (Ti,Al)N films are superior to those of TiN films. The AES results show that the superior antioxidation characteristic of (Ti,Al) N films at high temperatures results from the formation of protective Al2O3 layers as a result of selective oxidation of Al. Key words： (Ti    Al)N film    DC magnetron sputtering    oxidation resistance      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 蒋生蕊 彭栋梁 赵学应 谢亮 李强 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1994/V30/I17/233 1IkedaT,SatohH．ThinSolidFilms,1991;195:992JehnHA,HofmannS,RuckbornVE,MunzWD．JVacSciTechnol,1986;A4:27013JehnHA,HofmannS,MunzWD．ThinSolidFilms,1987;153:454张承忠．金属的腐蚀与保护．北京:冶金工业出版社,1985,90 [1] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678. [2] 沈朝, 王志鹏, 胡波, 李德江, 曾小勤, 丁文江. 镁合金抗高温氧化机理研究进展[J]. 金属学报, 2023, 59(3): 371-386. [3] 徐文国, 郝文江, 李应举, 赵庆彬, 卢炳聿, 郭和一, 刘天宇, 冯小辉, 杨院生. 微量Al、Ti对Inconel 690合金高温氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(12): 1547-1558. [4] 解磊鹏, 孙文瑶, 陈明辉, 王金龙, 王福会. 制备工艺对FGH4097高温合金微观组织与性能的影响[J]. 金属学报, 2022, 58(8): 992-1002. [5] 丛鸿达, 王金龙, 王成, 宁珅, 高若恒, 杜瑶, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 新型无机硅酸盐复合涂层制备及其在高温水蒸气环境的氧化行为[J]. 金属学报, 2022, 58(8): 1083-1092. [6] 唐帅, 蓝慧芳, 段磊, 金剑锋, 李建平, 刘振宇, 王国栋. 铁素体区等温过程中Ti-Mo-Cu微合金钢中的共析出行为[J]. 金属学报, 2022, 58(3): 355-364. [7] 孙佳孝, 杨可, 王秋雨, 季珊林, 包晔峰, 潘杰. 5356铝合金TIG电弧增材制造组织与力学性能[J]. 金属学报, 2021, 57(5): 665-674. [8] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490. [9] 杨亮, 吕皓天, 万春磊, 巩前明, 陈浩, 张弛, 杨志刚. 综述：活性元素作用机理——氧化物“钉扎”模型[J]. 金属学报, 2021, 57(2): 182-190. [10] 刘东雷, 陈情, 王德, 张睿, 王文琴. Ti-6Al-4V表面电子束熔覆(Ti, W)C1-x复合涂层的形成及摩擦性能[J]. 金属学报, 2020, 56(7): 1025-1035. [11] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529. [12] 赵明雨,甄会娟,董志宏,杨秀英,彭晓. 新型耐磨耐高温氧化NiCrAlSiC复合涂层的制备及性能研究[J]. 金属学报, 2019, 55(7): 902-910. [13] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656. [14] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307. [15] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed