掺杂Ti对Fe-N薄膜结构与磁性的影响

金属学报

1996, Vol. 32

Issue (11): 1199-1203

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掺杂Ti对Fe-N薄膜结构与磁性的影响

王合英;姜恩永;白海力;吴萍;刘明升

天津大学;天津大学应用物理系

EFFECTS OF Ti DOPING ON THE STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTY OF Fe-N FILMS

WANG Heying; JIANG Enyong;BAI Haili;WU Ping;LIU Mingsheng(Tianjin University; Tianjin 300072)

引用本文:

王合英;姜恩永;白海力;吴萍;刘明升. 掺杂Ti对Fe-N薄膜结构与磁性的影响[J]. 金属学报, 1996, 32(11): 1199-1203.
, , , , . EFFECTS OF Ti DOPING ON THE STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTY OF Fe-N FILMS[J]. Acta Metall Sin, 1996, 32(11): 1199-1203.

全文: PDF(421 KB)

摘要: 用对向靶溅射仪制备出含多量Ｆｅ（１６）Ｎ２相的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了掺杂Ｔｉ对Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响，在溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜时加入适量的Ｔｉ可提高Ｆｅ－Ｎ薄膜中Ｆｅ（１６）Ｎ２相的含量．Ｔｉ含量（原子分数）在０—２５％时薄膜饱和磁化强度均高于纯Ｆｅ的值；Ｔｉ浓度为１０％时，薄膜磁化强度高达２．６８Ｔ，比纯Ｆｅ的饱和磁化强度值高２０％．

关键词 ：对向靶溅射, Ｆｅ＿（１６）Ｎ＿２薄膜, Ｔｉ掺杂, 磁性, 结构

Abstract：(Fe,Ti)-N films with high content of Fe16N2 phase are prepared by facing target sputtering. Influences of doped titanium content on the structure and magnetic properties of Fe-N films are investigated. According to XRD and TEM results, optimum Ti additions enhance the formation of the 16:2 nitride, the values of saturation magnetization Bs for (Fe,Ti)-N films with Ti atomic fraction of 0—25% are larger than that for pure bcc iron, the maximum value for Bs is 2.68 T for the sample with 10% Ti, this value is 20% larger than that for pure bcc iron. Correspondent: WANG Heying, Department of Applied Physics, Tianjin University, Tianjin 300072

Key words： facing target sputtering Fe16N2 thin film Ti doping magnetic property structure

收稿日期: 1996-11-18

基金资助:国家自然科学基金;;中关村联合测试基金;;天津市２１世纪青年科学基金

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