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金属学报  1997, Vol. 33 Issue (3): 320-324    
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用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜
吴大兴;杨川;高国庆
西南交通大学;成都;610031;西南交通大学;成都;610031;西南交通大学;成都;610031
DEPOSITION OF Si_3N_4 THIN FILM ON STEELS BY DC-PCVD DEVICE
WU Daxing; YANG Chuan; GAO Guoqing (Southwest Jiaotong University;Chengdu 610031)
引用本文:

吴大兴;杨川;高国庆. 用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜[J]. 金属学报, 1997, 33(3): 320-324.
, , . DEPOSITION OF Si_3N_4 THIN FILM ON STEELS BY DC-PCVD DEVICE[J]. Acta Metall Sin, 1997, 33(3): 320-324.

全文: PDF(1676 KB)  
摘要: 控制工艺参数,用直流等离于化学气相沉积(DCPCVD)装置,对碳钢、合金结构钢、高速钢等沉积Si3N4非晶态薄膜,并研究了薄膜的成分、结构、形貌及硬度
关键词 Si_3N_4薄膜直流等离子化学气相沉积    
Abstract:Si3N4 thin film has been deposited on the matrixes of carbon steels, alloy structure steels, speed steels and stainless steels by using a direct current plasma chemical vapor deposition (DC-PCVD) device under controlling processing parameters. Component,structure, morphology and hardness of the film were measured. This thin film consists mainly of the component of Si3N4 with amorphous structure.
Key wordssteel    Si_3N_4 film    DC-PCVD
收稿日期: 1997-03-18     
基金资助:国家自然科学基金
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