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金属学报  2005, Vol. 41 Issue (8): 847-852     
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共晶SnBi/Cu焊点界面处Bi的偏析
刘春忠 张 伟 隋曼龄 尚建库
中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室; 沈阳 110016
引用本文:

刘春忠; 张伟; 隋曼龄; 尚建库 . 共晶SnBi/Cu焊点界面处Bi的偏析[J]. 金属学报, 2005, 41(8): 847-852 .

全文: PDF(520 KB)  
摘要: 利用SEM, TEM, XRD分析了共晶SnBi/Cu焊点经120℃时效7 d后界面 组织结构的变化. 焊点界面处金属间化合物厚度由原来初始态的约2 um 增至时效态的10 um, 并且化合物也由原来单一的Cu6Sn5转变为 Cu6Sn5和Cu3Sn相. 进 一步研究表明, 在Cu3Sn与Cu之间界面处偏析了大量尺寸约100 nm的Bi颗粒. 双缺口试样的断裂韧性实验表明, 热时效促使焊点断裂韧性快速下降, 同时该 焊点的断口也由原来初始态的韧性断裂转变为时效后Cu3Sn与Cu界面处的脆性 断裂, 脆性断裂后一侧断口为鲜亮的Cu表面. 在TEM下, 通过与220℃/5 d时 效态纯Sn/Cu焊点相同界面的比较, 可以断定引起该焊点失效的原因是Bi颗粒 在此界面处的偏析. 含Bi无Pb焊料由于Bi在界面析出而引发的脆断将会是微电 子器件长期使用中的一个潜在危害.
关键词 共晶SnBi/Cu焊点偏析界面反应    
Key words
收稿日期: 1900-01-01     
ZTFLH:  TG425.1  
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