锆离子轰击对纯锆腐蚀行为的影响

金属学报

2005, Vol. 41

Issue (2): 185-190

论文

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锆离子轰击对纯锆腐蚀行为的影响

彭德全白新德陈宝山

(清华大学材料科学与工程系; 北京 100084)

引用本文:

彭德全; 白新德; 陈宝山 . 锆离子轰击对纯锆腐蚀行为的影响[J]. 金属学报, 2005, 41(2): 185-190 .

全文: PDF(236 KB)

摘要: 为了研究自离子轰击对纯锆耐蚀性的影响, 用MEVVA源对纯锆样品进行了 1$\times$1015至2$\times$1017 ions/cm2的自离子轰击, 注入温度为170℃, 加速电压为50 kV. 用X射线光电子谱(XPS)对注入表面各元素进行价态分析; 用Auger电子能谱(AES)分析氧化膜厚度. 三次极化测量用来评价轰击样品在1 mol/L H$_2SO$_4溶液中的耐蚀性. 用掠射X射线衍射(GAXRD)分析自离子轰击造成的氧化膜相转变. 研究表明: 5$\times$1016 Zr ions/cm2自离子轰击样品的耐蚀性最好. 对自离子轰击纯锆的腐蚀行为机理进行了讨论.

关键词 ：纯锆, 耐蚀性, 自离子轰击, 动电位极化

Key words：

收稿日期: 2004-02-23

ZTFLH:

TG146.4

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