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金属学报  1998, Vol. 34 Issue (3): 305-312    
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CVD金刚石薄膜及膜-基界面形态
匡同春;刘正义;周克崧;王德政;代明江
华南理工大学机电系;广州;510641;华南理工大学机电系;广州;510641;广州有色金属研究院;广州;510651;广州有色金属研究院;广州;510651;广州有色金属研究院;广州;510651
MORPHOLOGIES AND STRUCTURES OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITED DIAMOND FILMS AND FILM-SUBSTRATE INTERFACES
KUANG Tongchun; LIU Zhengyi(Department of Mechanical and Electric Engineering; South China University of Technology; Guangzhou 510641 )ZHOU Kesong; WANG Dezheng; DAI Mingjiang (Guangzhou Research Institute of Non-Ferrous Metals; Guangzhou 510651)
引用本文:

匡同春;刘正义;周克崧;王德政;代明江. CVD金刚石薄膜及膜-基界面形态[J]. 金属学报, 1998, 34(3): 305-312.
, , , , . MORPHOLOGIES AND STRUCTURES OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITED DIAMOND FILMS AND FILM-SUBSTRATE INTERFACES[J]. Acta Metall Sin, 1998, 34(3): 305-312.

全文: PDF(4965 KB)  
摘要: 采用直流等离子体财流CVD法在硬质合金基体上沉积了多晶金刚石薄膜,借助XRD、Raman光谱、SEM和EPMA等对金刚石薄膜及膜-基界面的结构、形貌和成分进行了研究.结果表明,结晶度高的刻面型金刚石薄膜质量、纯度较好,膜-基界面处较致密,机械锚固作用明显,结合性能较好沉积前后基体表面形貌变化很大,存在数十微米厚的脱钴-等离子体刻蚀层,等离子体刻蚀导致脱钻表面更加凹凸不平,为金刚石形核提供了有利条件.
关键词 CVD金刚石薄膜界面结合性能形态    
Abstract:Polycrystalline diamond films were deposited on cemented carbide substrates using direct current plasma jet chemical vapor deposition (CVD) method. The structures, morphologies and compositions of diamond films and film-substrate interfaces have been characterized by XRD, Raman spectroscopy, SEM and EPMA. The results show that the faceted type diamond film with high crystallinity has good quality, high purity and excellent adhesion. Its film-substrate interface is dense and tortuous, and there is a significant mechanical anchoring effect between diamond film and substrate. The morphologies of substrate surfaces change greatly after deposition, there is several tens of microns in thickness cobalt-etched layer sequentially etched by plasma. The plasma etching leads to the cobalt-etched layer much rougher, which is beneficial to the diamond nucleation.
Key wordschemical vapor deposited diamond film    interface    adhesion    morphology
收稿日期: 1998-03-18     
基金资助:广东省科委资助项目!950263;;广东省高教厅资助!960004
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