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金属学报  1998, Vol. 34 Issue (7): 779-784    
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金刚石膜与硬质合金基体间的界面状态
匡同春;刘正义;代明江;周克崧;王德政
华南理工大学机电系;广州;510641;广东工业大学实验研究中心;广州;510090;华南理工大学机电系;广州;510641;广州有色金属研究院;广州;510651;广州有色金属研究院;广州;510651;广州有色金属研究院;广州;510651
STUDY ON THE INTERMCIAL MORPHOLOGY AND STRUCTURE OF DIAMOND THIN FILM-CEMENTED CARBIDE SUBSTRATE
KUANG Tongchun; LIU Zhengyi(Department of Mechanical and Electric Engineering; South China University of Technology; Guangzhou 510641)DAI Mingjiang; ZHOU Kesong; WANG Dezheng(Guangzhou Research Institute of Non-Ferrous Metals; Guangzhou 510651)
引用本文:

匡同春;刘正义;代明江;周克崧;王德政. 金刚石膜与硬质合金基体间的界面状态[J]. 金属学报, 1998, 34(7): 779-784.
, , , , . STUDY ON THE INTERMCIAL MORPHOLOGY AND STRUCTURE OF DIAMOND THIN FILM-CEMENTED CARBIDE SUBSTRATE[J]. Acta Metall Sin, 1998, 34(7): 779-784.

全文: PDF(3427 KB)  
摘要: 采用SEM,TEM对金刚石膜-硬质合金基体横截面的形态进行了研究,探讨了甲烷含量对CVD金刚石膜-基横截面各组织层次的影响结果表明,经化学侵蚀脱钻和等离子体刻蚀脱碳预处理的YG8硬质合金基体上所沉积的金刚石膜-基横截面组织的典型层次依次为:金刚石薄膜/薄的石墨碳中间层/细小的WC层/残留的脱碳层(η相+W相)/残留的疏松层/YG8原始基体甲烷含量对CVD金刚石膜-基横截面各组织层次的形成有显著的影响
关键词 CVD金刚石膜硬质合金界面横截面形貌    
Abstract:The cross-sectional morphologies and microstructures of CVD diamond thin films synthesized onto the cobalt cemented tungsten carbide (YGS) substrate have been observed by means of SEM and TEM. The results show that after chemically cobalt-removed and plasma-etching decarbonized treatments the sequence of cross-sectional structure is as follows:diamond thin film, graphite carbon thin film, small WC grains layer; retained decarbonized layer (W and η phases), residual porous layer, YG8 cemented carbide substrate. Methane concentrations have obvious influences on the formation and thickness of above-mentioned layers.
Key wordsCVD diamond thin film    cemented carbide    interface    cross-sectional morphology
收稿日期: 1998-07-18     
基金资助:广东省科委基金!950263;;广东省高教厅基金!960004
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