金属学报  2007, Vol. 43 Issue (7): 764-768

论文 本期目录 | 过刊浏览 |

电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 刘东坡 程小芳 朱文彩 张鉴清 曹楚南

浙江大学化学系

Cathodic Electro—Deposition of WO3 And Its Photoelectrochemical Anticorrosion for Copper Under Visible Light

LENG Wenhua; LIU Dongpo;CHENG Xiaofang; ZHU Wencai;ZHANG Jianqing;CAO Chunan

Chemistry Department; Zhejiang University

冷文华; 刘东坡; 程小芳; 朱文彩; 张鉴清; 曹楚南 . 电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护[J]. 金属学报, 2007, 43(7): 764-768 .
, , , , , . Cathodic Electro—Deposition of WO3 And Its Photoelectrochemical Anticorrosion for Copper Under Visible Light[J]. Acta Metall Sin, 2007, 43(7): 764-768 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(828 KB)   摘要: 为利用可见光能实现对金属材料的光电化学防腐蚀，采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极。考察了其制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响。结果表明：沉积电位-0.45 V （相对于饱和甘汞电极），沉积时间1600 s，烧结温度400 ˚C时电极光电性能较好；在光电化学电池中，阳极室添加空穴捕获剂如甲酸和升高溶液pH，有利于光电流输出。在阳极室溶液组成为0.5 mol•dm-3 Na2SO4+0.5 mol•dm-3 HCOOH (pH 9.6)时，WO3 薄膜电极在可见光光照下可对4 mol•dm-3 NaCl 溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀。这为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径，具有广泛潜在的应用前景。 关键词 ： WO3,  电沉积,  可见光     Key words： 收稿日期: 2006-11-23      ZTFLH:  TG174   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 冷文华 刘东坡 程小芳 朱文彩 张鉴清 曹楚南 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y2007/V43/I7/764 [1]Wu P F,Li M C,Shen J N,Xiao M Q,Liu D.Corros Sci Prote Technol,2005;17:104 (武朋飞,李谋成,沈嘉年,削美群,刘东,腐蚀科学与防护技术,2005;17:104 [2]Zhang J Q,Leng W H,Cheng X F,Liu D P.J Chin Soc Corros Prote,2006;26:188 (张鉴清,冷文华,程小芳,刘东坡,中国腐蚀与防护学报,2006; 26:188) [3]Ohko Y,Saitoh S,Tatsuma T,Fujishima A.J Electrochem Soc,2001;148:B24 [4]Ohko Y,Saitoh S,Tatsuma T,Fujishima A.Electrochem Solid State Lett,2002;5(2):B9 [5]Huang J,Shinohara T,Tsujikawa S.Zairyo Kankyo,1997; 46:651 (Huang J,Shinohara T,Tsujikawa S.材料环境,1997; 46:651) [6]Hyunwoong P,Kyoo-Young K,Wonyong C.J Phys Chem, 2002;106 B:4775 [7]Yuan J,Tsujikawa S.J Electrochem Soc,1995;142:3444 [8]Subasri R,Shimohara T,Mori K.J Electrochem Soc,2005; 152:B105 [9]Subasri R,Shimohara T.Electrochem Solid State Lett, 2004;7(7):B17 [10]Subasri R,Shimohara T.Electrochem Commun,2003;5: 897 [11]Fujisaws R,Tsujikawa S.Mater Sci Forum,1995;185- 188:1075 [12]Yuan J,Tsujikawa S.Zairyo Kankyo,1995;44:534 (Yuan J,Tsujikawa S.材料环境,1995;44:534) [13]Huang J,Shinohara T,Tsujikawa S.Zairyo Kankyo,1999; 48:575 (Huang J,Shinohara T,Tsujikawa S.材料环境,1999; 48:575) [14]Li M C,Suzhen L,Pengfei W,Jianian S.Electrochim Acta, 2005;50:3401 [15]Tatsuma T,Saitoh S,Ohko Y,Fujishima A.Chem Mater, 2001;13:2838 [16]Solarska R,Santato C,Jorand-Sartoretti C.J Appl Elec- trochem,2005;35:715 [17]Shi J Y,Leng W H,Cheng X F,Zhang J Q,Cao C N. Acta Phys Chinm Sin,2005;21:971 (施晶莹,冷文华,程小芳,张鉴清,曹楚南．物理化学学报, 2005;21:971) [18]Zhu W C.Master Thesis.Zhejiang University,Hangzhou, 2006 (朱文彩．浙江大学硕士学位论文．杭州,2006) [19]The Research Group of Analytic Method for Environmen- tal Pollution.Analytic Method for Environmental Pollu- tion(Vol.1:Analysis of Inorganic Compound).2nd Edi- tion,Beijing:Science Press,1987 (环境污染分析方法科研协作组．环境污染分析方法(第一卷,无机物分析)．北京:科学出版社,1987) [20]Santato C,Odziemkowski M,Ulmann M,Augustynski J. J Am Chem Soc,2001;123:10639 [21]Hoffmann M R,Martin S T,Choi W,Bahnemann D W. Chem Rev,1995;95:69 [22]Leng W H,Zhang Z,Zhang J Q,Cao C N.J Phys Chem, 2005;109B:15008 [1] 杭弢, 薛琦, 李明. 无模板电沉积金属微纳米阵列材料研究进展[J]. 金属学报, 2022, 58(4): 486-502. [2] 高运明, 何林, 秦庆伟, 李光强. 利用ZrO2 固体电解质研究Na3AlF6-SiO2 熔盐中的电沉积[J]. 金属学报, 2022, 58(10): 1292-1304. [3] 高博文, 王美涵, 闫茂成, 赵洪涛, 魏英华, 雷浩. 2024铝合金表面PEDOT涂层的电化学制备及耐腐蚀性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1541-1550. [4] 张霞, 宋扬, 王誉, 纪逯鹤, 杨媚, 孟皓. 超声共混合成Ni(HNCN)2/BiVO4复合可见光催化剂[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1551-1557. [5] 赵明雨,甄会娟,董志宏,杨秀英,彭晓. 新型耐磨耐高温氧化NiCrAlSiC复合涂层的制备及性能研究[J]. 金属学报, 2019, 55(7): 902-910. [6] 荣凤鸣, 王誉, 张霞. 基于氰胺锌的复合光催化剂的结构与可见光催化性能[J]. 金属学报, 2018, 54(1): 76-82. [7] 赵婷婷, 康志新, 马夏雨. 一步电沉积法制备超疏水Cu网及其耐腐蚀和油水分离性能[J]. 金属学报, 2018, 54(1): 109-117. [8] 周小卫,欧阳春,乔岩欣,沈以赴. 活性Ti表面电沉积Ni-CeO2复合镀层及其强韧性机理分析[J]. 金属学报, 2017, 53(2): 140-152. [9] 钟晓聪, 蒋良兴, 吕晓军, 赖延清, 李劼, 刘业翔. 氯离子对Pb-Ag-RE合金阳极电化学行为的影响[J]. 金属学报, 2015, 51(3): 378-384. [10] 颜永得, 杨晓南, 张密林, 李星, 王丽, 薛云, 张志俭. 氯化物熔盐体系共电沉积法制备Al-Li-Gd合金的研究*[J]. 金属学报, 2014, 50(8): 989-994. [11] 单海权, 张跃飞, 毛圣成, 张泽. 电沉积纳米孪晶Ni中五次孪晶的电子显微分析*[J]. 金属学报, 2014, 50(3): 305-312. [12] 李绪亮,张迎春,江凡,王莉莉,刘艳红,孙宁波. 电流密度对V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积W涂层显微结构的影响[J]. 金属学报, 2013, 49(6): 745-750. [13] 龙琼,钟云波,李甫,刘春梅,周俊峰,范丽君,李明杰. 稳恒磁场对Fe-Si复合电镀层形貌及Si含量的影响[J]. 金属学报, 2013, 49(10): 1201-1210. [14] 周小卫 沈以赴 顾冬冬. 双脉冲电沉积纳米晶Ni-CeO2复合镀层的微观结构及其高温抗氧化性能[J]. 金属学报, 2012, 48(8): 957-964. [15] 成宇浩 张跃飞 毛圣成 韩晓东 张泽. 温度对电沉积纳米孪晶Ni显微结构及纳米压痕力学性能的影响[J]. 金属学报, 2012, 48(11): 1342-1348. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed