金属学报  2005, Vol. 41 Issue (3): 333-336

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掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制

付恩刚;庄大明;张弓

清华大学机械工程系; 北京100084；香港大学物理系; 香港

Infrared properties and mechanism of Al-doped ZnO thin films

FU Engang; ZHUANG Daming; ZHANG Gong

Department of Mechanical Engineering; Tsinghua University; Beijing 100084；Department of Physics; The University of Hong Kong; Hong Kong

付恩刚; 庄大明; 张弓 . 掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制[J]. 金属学报, 2005, 41(3): 333-336 .
, , . Infrared properties and mechanism of Al-doped ZnO thin films[J]. Acta Metall Sin, 2005, 41(3): 333-336 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(170 KB)   摘要: 采用中频交流磁控溅射氧化锌铝(ZnO+2%Al2O3)陶瓷靶材的方法制备了掺铝氧化锌ZAO(ZnO∶Al)薄膜. 利用红外光谱仪测试了薄膜的红外反射性能, 研究了薄膜厚度、基体温度和氩气压力对ZAO薄膜红外反射性能的影响规律, 确定了制备具有高红外反射率的ZAO薄膜的工艺参数. 关键词 ： 磁控溅射,  ZAO薄膜,  红外反射      Abstract：Al-doped zinc oxide (ZAO) thin films were prepared by middle-frequency alternative magnetron sputtering with ZAO (ZnO+2%Al2O3) ceramic target. IR (infrared reflection) spectrometry was used to examine infrared reflection properties. The influences of film thickness, substrate temperature and argon gas pressure on the performances of ZAO thin films were investigated. The technical parameters for depositing ZAO films with high infrared reflection were determined. Key words： magnetron sputtering    ZAO thin film    infrared reflection 收稿日期: 2004-04-23      ZTFLH:  O484.4   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 付恩刚 庄大明 张弓 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y2005/V41/I3/333 [1] Duan X C, Yang X P. Rare Met Cem Carbides, 1999; 138: 58 (段学臣,杨向萍.稀有金属与硬质合金, 1999;138:58) [2] Anil K R, Suresh M S, Nagaraju J. Solar Energy Mater Solar Cells, 2000; 60: 155 [3] Terakawa A, Shima M, Isomura M, Tanaka M, Kiyama S, Tsuda S, Matsunami H. J Non-Cryst Solids, 1998; 230: 1267 [4] Fu E G, Zhuang D M, Zhang G, Hou Y Q, Wu M S. Rare Met Mater Eng, 2002; 31(Suppl.1): 523 (付恩刚,庄大明,张弓,侯亚奇,吴敏生.稀有金属材料与 工程,2002;31(增刊1):523) [5] Fan Z X, Chen J L, Sun Y C. Vacuum, 2000; (5): 10 (范志新,陈玖琳,孙以材.真空,2000;(5):10) [6] Chen M, Pei Z L, Sun C, Gong J, Huang R F, Wen L S. Mater Sci Eng, 2001; B85: 212 [7] Jin Z C, Hamberg I, Granqvist C G, Sernelius B E, Berggren K F. Thin Solid Films, 1988; 164: 381 [8] Fu E G, Zhuang D M, Zhang G, Yang W F, Zhao M. Appl Surf Sci, 2003; 217: 88 [9] Fu E G, Zhuang D M, Zhang G, Yang W F, Zhao M. J Funct Mater. 2003; 34: 543 (付恩刚,庄大明,张弓,杨伟方,赵明.功能材料,2003; 34:543) [1] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678. [2] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490. [3] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529. [4] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656. [5] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316. [6] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307. [7] 时惠英, 杨超, 蒋百灵, 黄蓓, 王迪. 双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 927-934. [8] 楼白杨,王宇星. Mo含量对CrMoAlN薄膜微观结构和摩擦磨损性能的影响*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 727-733. [9] 隋旭东,李国建,王强,秦学思,周向葵,王凯,左立建. 钛合金切削用Ti1-xAlxN涂层的制备及其切削性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 741-746. [10] 吴法宇,李建伟,齐羿,丁梧桐,樊子铭,周艳文. 粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1595-1600. [11] 齐东丽, 雷浩, 范迪, 裴志亮, 宫骏, 孙超. Mo含量对CrMoN复合涂层的组织结构和性能的影响[J]. 金属学报, 2015, 51(3): 371-377. [12] 崔文芳,曹栋,秦高梧. 磁控溅射沉积Ti/TiN多层膜的组织特征及耐磨损性能*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1531-1537. [13] 杨超,蒋百灵,冯林,郝娟. 靶面放电特性对沉积粒子离化率及沉积行为的影响*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1523-1530. [14] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424. [15] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed