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金属学报  2002, Vol. 38 Issue (7): 727-730     
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Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制
任峰  高苏  张启运
北京大学化学系;北京100871
引用本文:

任峰; 高苏; 张启运 . Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制[J]. 金属学报, 2002, 38(7): 727-730 .

全文: PDF(192 KB)  
摘要: 用金相和润湿力测定的方法研究了带不同隔离层的Cu线在热浸Sn和电镀Sn制备电子元件引线时仓储可焊性的变化.实验表明,Ni隔离层与Cu芯线的结合能力和保护能力最强,但只适用于350℃以下热浸Sn工艺.Co隔离层则可完满地适用至450℃.Fe隔离层由于热浸Sn时往往局部破裂,不能使Cu-Sn得到完全的隔离.Fe,Co,Ni隔离层在电镀法覆锡制备引线时均能获得良好的效果.
关键词 金属间化合物电子元件引线隔离层钎焊    
Key words
收稿日期: 2001-09-24     
ZTFLH:  TG146.1  
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