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金属学报  2003, Vol. 39 Issue (1): 55-60     
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电弧离子镀(Ti, Al)N复合薄膜的结构和性能研究
李明升;王福会;王铁钢;宫骏;孙超;闻立时
中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;沈阳 110016;中国科学院金属研究所; 沈阳 110016
Investigation of Phase Structure and Performance of (Ti, Al)N Films Deposited by Arc Ion Plating
LI Mingsheng; WANG Fuhui; WANG Tiegang; GONG Jun; SUN Chao; WEN Lishi
State Key Laboratory for Corrosion and Protection; Institute of Metal Research; The Chinese Academy of Sciences; Shenyang 110016;Institute of Metal Reach; The Chinese Academy of Sciences; Shenyang 110016
引用本文:

李明升; 王福会; 王铁钢; 宫骏; 孙超; 闻立时 . 电弧离子镀(Ti, Al)N复合薄膜的结构和性能研究[J]. 金属学报, 2003, 39(1): 55-60 .
, , , , , . Investigation of Phase Structure and Performance of (Ti, Al)N Films Deposited by Arc Ion Plating[J]. Acta Metall Sin, 2003, 39(1): 55-60 .

全文: PDF(217 KB)  
摘要: 利用电弧离子镀设务在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体表面沉积了不同成分的(Ti1-xAlx)薄膜;X射线衍射分析表明,x在0-0.5之间时,薄膜是B1型(NaCl)单相结构;x=0.64时,同时出了B1和B4型(ZnS)两种相结构,x≥0.79时,只出现B4型结构;随着Al含量的增加,晶格常数减小,B1结构的薄膜择优取向由(111)向(220)转变.力学性能测试表明,适当Al含量可以提高薄膜的硬度、膜基结合强度及抗磨损性能;B1结构(Ti, Al)薄膜的氧化实验表明,随着Al含量的增加,薄膜抗氧化性能显著提高.
关键词 电弧离子镀(TiAl)N薄膜结构变化    
Key words
收稿日期: 2002-03-18     
ZTFLH:  TG174.444  
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