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金属学报  2005, Vol. 41 Issue (6): 659-662     
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FePt/Cu多层膜化降低L10-FePt有序化温度
李宝河;黄 阀;杨 涛;冯 春;滕 蛟 ;朱逢吾
北京科技大学材料物理与化学系; 北京 100083; 北京工商大学数理部; 北京 100037
Lowering of Ordering Temperature for L10-FePt in FePt/Cu Multilayers
LI Baohe; HWANG Pol; YANG Tao; FENG Chun; TENG Jiao; ZHU Fengwu
Department of Material Physics and Chemistry; University of Science and Technology Beijing; Beijing 100083; Department of Mathematics and Physics; Beijing Technology and Business University; Beijing 100037
引用本文:

李宝河; 黄阀; 杨涛; 冯春; 滕蛟; 朱逢吾 . FePt/Cu多层膜化降低L10-FePt有序化温度[J]. 金属学报, 2005, 41(6): 659-662 .
, , , , , . Lowering of Ordering Temperature for L10-FePt in FePt/Cu Multilayers[J]. Acta Metall Sin, 2005, 41(6): 659-662 .

全文: PDF(152 KB)  
摘要: 采用直流磁控溅射方法制备FePt/Cu多层膜, 再经不同温度下真空热处理得到有 序L10-(FePt)100-xCux薄膜. 结果表明, Cu的添加可以降低FePt 薄膜有序化温度. [FePt(4 nm)/Cu(0.2 nm)]10多层膜在350 ℃热处理1 h后, 有序度增至0.6, 矫顽力达到421 kA/m. 对插入极薄Cu层促进有序化在较低的温度 下进行的热力学和动力学因素进行了讨论.
关键词 FePt/Cu多层膜L10-FePt有序相磁控溅射    
Abstract:FePt/Cu multilayers and FePt thin films were prepared by DC magnetron sputtering. The as-prepared samples were annealed in vacuum at a temperature range of 300-550 ℃ for 1 h. It is found that the addition of Cu could reduce the ordering temperature of FePt. The ordering parameter $S$ was evaluated to be 0.6, and the coercivity reached 421 kA/m in [FePt(4 nm)/Cu(0.2 nm)]10 multilayers annealed at 350 ℃. The Cu layer induced reduction of ordering temperature is ascribed to both kinetic and thermodynamic factors.
Key wordsFePt/Cu multilayer    L10-FePt ordered phase    magnetron sputtering
收稿日期: 2004-10-19     
ZTFLH:  TG111  
[1]Choe G,Zhou J N,Demczyk B,Yu M,Zheng M,Weng R, Chekanov A,Johnson K E,Liu F,Stoev K.IEEE Trans Magn,2003;39:633
[2]Weller D.IEEE Trans Magn,2000;36:10
[3]Lee S R,Yang S,Kim Y K,Na J G.Appl Phys Lett,2001;78:4001
[4]Shima T,Moriguchi T,Mitani S,Takanashi K.Appl Phys Lett,2002;80:288
[5]Hsu Y N,Jeong S,Laughlin D E,Lambeth D N.J Appl Phys,2001;89:7068
[6]Maeda T,Kai T,Kikitsu A,Nagase T,Akiyama J I.Appl Phys Lett,2002;80:2147
[7]Endo Y,Kikuchi N,Kitakami O,Shimada Y.J Appl Phys,2001;89:7065m
[1] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678.
[2] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490.
[3] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529.
[4] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656.
[5] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316.
[6] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307.
[7] 时惠英, 杨超, 蒋百灵, 黄蓓, 王迪. 双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 927-934.
[8] 隋旭东,李国建,王强,秦学思,周向葵,王凯,左立建. 钛合金切削用Ti1-xAlxN涂层的制备及其切削性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 741-746.
[9] 楼白杨,王宇星. Mo含量对CrMoAlN薄膜微观结构和摩擦磨损性能的影响*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 727-733.
[10] 吴法宇,李建伟,齐羿,丁梧桐,樊子铭,周艳文. 粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1595-1600.
[11] 齐东丽, 雷浩, 范迪, 裴志亮, 宫骏, 孙超. Mo含量对CrMoN复合涂层的组织结构和性能的影响[J]. 金属学报, 2015, 51(3): 371-377.
[12] 崔文芳,曹栋,秦高梧. 磁控溅射沉积Ti/TiN多层膜的组织特征及耐磨损性能*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1531-1537.
[13] 杨超,蒋百灵,冯林,郝娟. 靶面放电特性对沉积粒子离化率及沉积行为的影响*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1523-1530.
[14] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424.
[15] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424.