金属学报  2001, Vol. 37 Issue (2): 113-117

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纳米Ti膜形成过程的扫描隧道显微镜观察

谢天生　 杜昊　 孟祥敏　 孙超　 闻立时

中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室;沈阳 110016

谢天生; 杜昊; 孟祥敏; 孙超; 闻立时 . 纳米Ti膜形成过程的扫描隧道显微镜观察[J]. 金属学报, 2001, 37(2): 113-117 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(172 KB)   摘要: 用磁控溅射方法在聚合物薄膜基体上制备出不同厚度的纳米Ti膜.扫描隧道显微镜(STM)的观察结果表明,初期膜是由直径小于2 nm的形核粒子和粒子团聚体组成.粒子沉积呈岛状生长形成纳米晶粒结构.随薄膜厚度增加,平均晶粒尺寸增加,形成大尺寸晶粒的连续薄膜.分析和讨论了薄膜生长过程的结构特征及溅射条件对薄膜结构的影响. 关键词 ： 磁控溅射,  纳米Ti膜,  扫描隧道显微镜(STM)     Key words： 收稿日期: 2000-09-28      ZTFLH:  O484.1   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 谢天生 杜昊 孟祥敏 孙超 闻立时 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y2001/V37/I2/113 [1] Lifshin E ed, Ye H Q et al trans. Characterization ofMaterials. Part Ⅱ, Beijing: Science Press, 1998: 112(Litshin E 著, 叶恒强等译. 材料的特征检测. 第Ⅱ部分,北京: 科学出版社, 1998: 112) [2] Bai X D, Huang R F, Wen L S. Acta Metall Sin, 1998; 34:1007(白雪冬, 黄荣芳, 闻立时. 金属学报, 1998; 34: 1007) [3] Kaynak A, Unsworth J, Clout R, Mohan A S, Beard G E.J App Polym Sci, 1994; 54: 269 [4] Xue Z Q, Wu Q D, Li J. Physics of Thin Film. Beijing:Electronic Industry Press, 1991: 23(薛增泉, 吴全德, 李杰. 薄膜物理. 北京: 电子工业出版社,1991: 23) [5] Zhang L D, Mu J M. Nano Materials. Shenyang: LiaoningScience and Technology Press, 1994: 21, 26, 50(张立德, 牟季美. 纳米材料学. 沈阳: 辽宁科学技术出版社,1994: 21, 26, 50) [6] Semaltianos N G, Wilson E G. Thin Solid Films, 2000;366: 111 [7] Wang X, Olafsson S. Thin Solid Films, 20O0; 360: 181 [8] Wu J L, Wu Q D. New Type Thin Film Materials. Beijing:Beijing University Press, 1999: 270(吴锦雷, 吴全德. 几种新型薄膜材料.北京:北京大学出版社,1999: 270)% [1] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678. [2] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490. [3] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529. [4] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656. [5] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307. [6] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316. [7] 时惠英, 杨超, 蒋百灵, 黄蓓, 王迪. 双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 927-934. [8] 隋旭东,李国建,王强,秦学思,周向葵,王凯,左立建. 钛合金切削用Ti1-xAlxN涂层的制备及其切削性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 741-746. [9] 楼白杨,王宇星. Mo含量对CrMoAlN薄膜微观结构和摩擦磨损性能的影响*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 727-733. [10] 吴法宇,李建伟,齐羿,丁梧桐,樊子铭,周艳文. 粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1595-1600. [11] 齐东丽, 雷浩, 范迪, 裴志亮, 宫骏, 孙超. Mo含量对CrMoN复合涂层的组织结构和性能的影响[J]. 金属学报, 2015, 51(3): 371-377. [12] 崔文芳,曹栋,秦高梧. 磁控溅射沉积Ti/TiN多层膜的组织特征及耐磨损性能*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1531-1537. [13] 杨超,蒋百灵,冯林,郝娟. 靶面放电特性对沉积粒子离化率及沉积行为的影响*[J]. 金属学报, 2015, 51(12): 1523-1530. [14] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424. [15] 马玉田,刘俊标,霍荣岭,韩立,牛耕. 基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究*[J]. 金属学报, 2015, 51(11): 1416-1424. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed