金属学报  1997, Vol. 33 Issue (7): 737-741

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Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析

王凤平;王佩璇;方正知;崔明启;姜晓明;马宏骥

北京科技大学;北京;100083;北京科技大学;北京;100083;北京科技大学;北京;100083;中国科学院高能物理研究所;北京;100039;中国科学院高能物理研究所;北京;100039;中国科学院高能物理研究所;北京;100039

THE INTERFACIAL ANALYSIS OF MO/SiO_2 MULTILAYERS MIRROR FOR SOFT X-RAY

WANG Fengping;WANG Peixuan;FANG Zhengzhi (University of Science and Technology Beting; Beting 100083); CUI Mingqi;JIANG Xiaoming; MA Hong; (Institute of High Energy Physics; Chinese Academy of Sciences; Beijing 100039)

王凤平;王佩璇;方正知;崔明启;姜晓明;马宏骥. Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析[J]. 金属学报, 1997, 33(7): 737-741.
, , , , , . THE INTERFACIAL ANALYSIS OF MO/SiO_2 MULTILAYERS MIRROR FOR SOFT X-RAY[J]. Acta Metall Sin, 1997, 33(7): 737-741.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(457 KB)   摘要: 用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo／SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度．同时，用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加，界面粗糙度增加． 关键词 ： Mo／SiO_2多层膜,  磁控溅射,  同步辐射,  低角X射线衍射,  俄歇电子能谱     Abstract：Groups of Mo/Sio2 multilayer films were fabricated by magnetron sputter ing in Ar atmosphere. Low angle X-ray diffraction analysis of the multilayers was carried out at the diffusion scattering station of BSRF. The interfacial roughness and periodic structure are investigated through simulation of low angle X-ray diffraction spectra based on the dynamical theory. The periodic structure and composition of Mo/SiO2 multilayers were also characterized with AES. The results show that very good composition modulation struc ture formed, and no obvious diffusion of St and / or O through Mo layers is observed. Key words： Mo/Sio2 multilayer    magnetron sputtering    interfacial roughness    low angle X-ray diffraction    AES 收稿日期: 1997-07-18      基金资助:国家自然科学基金!59471053 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 王凤平 王佩璇 方正知 崔明启 姜晓明 马宏骥 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1997/V33/I7/737 1 Chakrabotry P. Int J Mod Phys, 1991; B 5: 2133 2 Eason R W. TechnicaI Report of Ruther.brd Appleton Laboratory, A4, 1987: 1 3 Okada H, Mayama K, Goto Y, Kusunoki L, Yanagihara M. Appl Opt, 1994; 33: 4219 4 Berning P H. Phys Thin Fdms, 1963, 1. 69 5 Underwood J H, Barbee T W Jr. AIP Conf Proc, 1981, (75): 170 6 Henke B L, Lee P, Tanaka T J, Shimabukuro R L, Fuiikawa B K. A,omic Data and Nuclear Data TabIe, Vol.27, New York' Academic Press, 1982: 1 7 Li Z G, Smith D J, Tsen S-C Y, Boher P, Houdy Ph. J Appl Phys, 1991; 70: 2905 [1] 李时磊, 李阳, 王友康, 王胜杰, 何伦华, 孙光爱, 肖体乔, 王沿东. 基于中子与同步辐射技术的工程材料/部件多尺度残余应力评价[J]. 金属学报, 2023, 59(8): 1001-1014. [2] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678. [3] 丁宗业, 胡侨丹, 卢温泉, 李建国. 基于同步辐射X射线成像液/固复层界面氢气泡的形核、生长演变与运动行为的原位研究[J]. 金属学报, 2022, 58(4): 567-580. [4] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490. [5] 曾桥石, 尹梓梁, 楼鸿波. 金属玻璃中的非晶多形态转变[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 491-500. [6] 李亦庄,黄明欣. 基于中子衍射和同步辐射X射线衍射的TWIP钢位错密度计算方法[J]. 金属学报, 2020, 56(4): 487-493. [7] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529. [8] 张志杰, 黄明亮. 原位研究Cu/Sn-37Pb/Cu微焊点液-固电迁移行为[J]. 金属学报, 2020, 56(10): 1386-1392. [9] 吴正凯, 吴圣川, 张杰, 宋哲, 胡雅楠, 康国政, 张海鸥. 基于同步辐射X射线成像的选区激光熔化Ti-6Al-4V合金缺陷致疲劳行为[J]. 金属学报, 2019, 55(7): 811-820. [10] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656. [11] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316. [12] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307. [13] 宋哲, 吴圣川, 胡雅楠, 康国政, 付亚楠, 肖体乔. 冶金型气孔对熔化焊接7020铝合金疲劳行为的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(8): 1131-1140. [14] 时惠英, 杨超, 蒋百灵, 黄蓓, 王迪. 双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 927-934. [15] 楼白杨,王宇星. Mo含量对CrMoAlN薄膜微观结构和摩擦磨损性能的影响*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 727-733. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed