用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式

金属学报

1992, Vol. 28

Issue (10): 21-24

论文

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用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式

邓文;熊良钺;龙期威;王淑荷;郭建亭

中国科学院金属研究所;中国科学院国际材料物理中心沈阳(110015);中国科学院金属研究所;中国科学院国际材料物理中心;中国科学院金属研究所;中国科学院国际材料物理中心;中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所

INVESTIGATION OF BEHAVIOUR OF B IN Ni_3AI ALLOYS BY POSITRON ANNIHILATION TECHNIQUE

DENG Wen; XIONG Liangyue; LONG Qiwei (International centre for Materials Physics; Institute of Metal Research; Academia Sinica; Shenyang); WANG Shuhe; GUO Jianting (Institute of Metal Research; Academia Sinica; Shenyang)

引用本文:

邓文;熊良钺;龙期威;王淑荷;郭建亭. 用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式[J]. 金属学报, 1992, 28(10): 21-24.
, , , , . INVESTIGATION OF BEHAVIOUR OF B IN Ni_3AI ALLOYS BY POSITRON ANNIHILATION TECHNIQUE[J]. Acta Metall Sin, 1992, 28(10): 21-24.

全文: PDF(304 KB)

摘要: 本文用正电子湮没技术(PAT)研究了不同硼含量的单晶和多晶Ni_3Al中硼原子的存在形式。在Ni_3Al合金中加入少量硼(≤1.37％)时,一部分硼原子以间隙方式溶解到基体中,使晶格发生畸变,导致基体中正电子寿命(τ)增长;另一部分硼偏聚到空位型缺陷上,产生“填充效应”,导致平均寿命■和S参数下降。硼量为2.22at.-％时,缺陷态的τ显著增长,■和S参数增大,表明在晶界成晶内析出硼化物,诱发了较多的自由体积较大的缺陷。

关键词 ： Ni_3Al, 正电子湮没, 硼含量, 缺陷

Abstract：The behaviour of B atoms added to mono- and poly-crystalline Ni_3Al alloys has been investigated by positron annihilation technique. If an additive of B less than 1.37 at.-%, some of B atoms solid-dissolved interstitially into matrix and distorted the lattice, thus the lifetime of positron in matrix dilated; the others of them segregated on vacancy-like defects and formed" filling effect", thus the mean lifetime and S parameters decreased. If B added up to 2.22 at.-%, more defects having larger free volume were induced by boride eutectic occurred along grain boundaries and grain interior, thus the positron lifetime in vacancy-like defects, mean lifetime and S parameters increased remarkably.

Key words： Ni_3Al positron annihilation B additive defect

收稿日期: 1992-10-18

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