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金属学报  1995, Vol. 31 Issue (15): 139-144    
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单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构及性能研究
朱宏;柳襄怀;任琮欣;陈国梁;邹世昌
中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室
STRUCTURE AND PROPERTIES OF DIAMOND LIKE CARBON FILMS BY LOW ENERGY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION USING A SINGLE ION SOURCE
ZHU Hong; LIU Xianghuai; REN Congxin; CHEN Guoliang; ZOU Shichang (Ion Beam Lahoratory Shanghai Institute of Metallurgy; Chinese Academy of Sciences;Shanghai 200050)
引用本文:

朱宏;柳襄怀;任琮欣;陈国梁;邹世昌. 单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构及性能研究[J]. 金属学报, 1995, 31(15): 139-144.
, , , , . STRUCTURE AND PROPERTIES OF DIAMOND LIKE CARBON FILMS BY LOW ENERGY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION USING A SINGLE ION SOURCE[J]. Acta Metall Sin, 1995, 31(15): 139-144.

全文: PDF(428 KB)  
摘要: 用单源低能氩离子束辅助沉积(IBAD)法制备了非晶碳薄膜.氩离子能量为400-1500eV.膜面光滑致密,与衬底的结合力较高。用Raman,FTIR,HRTEM,TED,SEM,ERD及RBS研究了薄膜的形貌、结构和组分,测量了膜的电阻率、显微硬度及摩擦系数.薄膜为无定形的类金刚石(DLC).其中含氢约为205at.-%,碳原子与氢原子几乎没有形成C-H键.随着离子束能量及束流的增加,显微硬度、摩擦系数增加,电阻率减小.硬度增加是由于薄膜致密度的增加,而电阻率降低是由于膜中金刚石键(sp~3键)含量减少的缘故.
关键词 离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构性能    
Abstract:Amorphous carbon films with a smooth surface and a good adhesion to silicon and steel substrates have been prepared by ion beam assisted deposition (IBAD) using a single ion source. The energy of Ar ion ranged from 400 to 1500 eV. The structure and composition of the films were characterized using Raman spectroscopy, FTIR, HRTEM, TED. SEM, ERD and RBS. Electrical resistivity, microhardness and friction coefficient were tested to evaluate the films. The films was proved to be diamond like carbon (DLC). The hydrogen content measured by ERD is about 2.05 at.-%. The carbon hydrogen bond (C-H) seemes unformed. As ion energy and beam current increased. microhardness and friction coefficient increased. but electrical resistivity decreased. The increased microhardness is due to the increased film density and the decreased electrical resistivity is due to the decreased concentration of sp~3 bonds in the film.
Key words diamond like carbon film    ion beam assisted deposition    structure    property
    
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