金属学报  2004, Vol. 40 Issue (10): 1069-1073

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脉冲偏压电弧离子镀沉积温度的计算

白 晓 林国强 董 闯 闻立时

大连理工大学三束材料改性国家重点实验室; 大连 116024

Calculation on Deposited Temperature During Pulsed Bias Arc Ion Plating

BAI Xiao; LIN Guoqiang; DONG Chuang; WEN Lishi

白晓; 林国强; 董闯; 闻立时 . 脉冲偏压电弧离子镀沉积温度的计算[J]. 金属学报, 2004, 40(10): 1069-1073 .
, , , . Calculation on Deposited Temperature During Pulsed Bias Arc Ion Plating[J]. Acta Metall Sin, 2004, 40(10): 1069-1073 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(49810 KB)   摘要: 针对脉冲偏压电弧离子镀技术，分析了影响基体沉积温度的各项因素及其影响程度。在直流偏压电弧离子镀沉积温度计算模型的基础上，在偏压输出波形为近方波的相对规范形状的条件下，将脉冲离子轰击输入能量功率等效成直流输入功率与占空比的乘积，再基于能量平衡原理建立脉冲偏压电弧离子镀基体沉积温度的理论计算模型，最后用实测的沉积温度对计算模型进行检验，在－1000——0 V的偏压范围内，理论与实验得到了好的吻合。 关键词 ： 电弧离子镀,  脉冲偏压,  沉积温度     Abstract：The influencing factors and their weights on deposited temperature have been studied in detail during pulsed bias arc ion plating (PBAIP). Based on the model of deposited temperature calculation in arc ion plating (AIP), and under the condition of the rectangle substrate voltage waveforms, the input power intensity of ion bombardment in PBAIP can be equal to the product of the input power in AIP and duty cycle in PBAIP. On the basis of energy conversation principle, a substrate temperature calculation model for PBAIP is established when the bias voltage varies from -1000 V to 0. Experiments are also used to verify the calculated results and a good agreement is obtained. Key words： arc ion plating    pulsed bias    deposited temperature 收稿日期: 2003-10-10      ZTFLH:  TB43   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 白晓 林国强 董闯 闻立时 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y2004/V40/I10/1069 [1] Perry A J, Tian A F, Treglio J R, Loomics C. Surf CoatTechnol, 1994; 68-69: 528 [2] Olbrich W, Fessmann J, Kampschulte G, Ebberink J. SurfCoat Technol, 1991; 49: 258 [3] Wen L S, Huang R F. Surf Coat Technol, 1998; 14: 289 [4] Fessmann J, Olbrich W, Kampschulte G, Ebberink J.Mater Sci Eng, 1991; A140: 830 [5] Huang M D, Sun C, Lin G Q, Dong C, Wen L S. ActaMetall Sin, 2003; 39: 516(黄美东,孙超,林国强,董闯,闻立时.金属学报,2003;39:516) [6] Huang M D, Lin G Q, Dong C, Sun C, Wen L S. Acta Metall Sin, 2003; 39: 510(黄美东,林国强,董闯,孙超,闻立时.金属学报,2003;39:510) [7] Olbrich W, Kampschulte G. Surf Coat Technol, 1993; 59:274 [8] Olbrich W, Kampschulte G. Surf Coat Technol, 1993; 61:262 [9] Li Z Y, Zhu W B, Zhang Y, Li G Y, Cao E Y. Surf CoatTechnol, 2000; 131: 15 [10] Engers B, Fuchs H, Schjultz J, Hettkamp E, Mecke H. SurfCoat Technol, 2000; 133-134: 121 [11] Huang M D, Lin G Q, Dong C, Sun C, Huang R F, WenL S. Trans Mater Heat Treat, 2001; 22: 75(黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时.材料热处理学报,2001;22:75) [12] Lin G Q, Ding Z F, Qi D, Zhao Y H, Wang N H, Dong C.J Vac Sci Technol A, 2003: 21: 1675 [13] Tang J. Electrotechnics. Beijing: Publishing Company ofHigher Education, 1999: 55(唐介.电工学.北京:高等教育出版社,1999:55) [14] Alfred G. Cold Plasma in Materials Fabrication-from Fundamentals to Applications. New York: IEEE Press, 1993: 12 [15] Ljungcrantz'H, Hultman L, Sundgren J E, Karisson L. J Appl Phys, 1995; 78: 832 [16] Brown I G. Rev Sci Instrum, 1994; 65: 3061 [1] 刘冠熙, 黄光宏, 罗学昆, 申造宇, 何利民, 李建平, 牟仁德. 表面喷丸处理对NiCrAlYSi涂层恒温氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2021, 57(5): 684-692. [2] 彭新, 姜肃猛, 孙旭东, 宫骏, 孙超. 梯度NiCoCrAlYSi涂层的循环氧化及热腐蚀行为*[J]. 金属学报, 2016, 52(5): 625-631. [3] 韩克昌,刘一奇,林国强,董闯,邰凯平,姜辛. 宽固溶区过渡金属氮化物MNx (M=Ti, Zr, Hf)硬质薄膜原子尺度强化机制研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1601-1609. [4] 吴多利, 姜肃猛, 范其香, 宫骏, 孙超. 镍基高温合金Al-Cr涂层的恒温氧化行为*[J]. 金属学报, 2014, 50(10): 1170-1178. [5] 于大千,卢旭阳,马军,姜肃猛,刘山川,宫骏,孙超. 梯度NiCrAlY涂层的1000和1100 ℃氧化行为研究[J]. 金属学报, 2012, 48(6): 759-768. [6] 常正凯, 肖金泉, 陈育秋, 刘山川, 宫骏, 孙超. 电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究[J]. 金属学报, 2012, 48(5): 547-554. [7] 卢旭阳, 于大千, 姜肃猛, 刘山川,宫骏, 孙超. (NiCoCrAlYSiB+AlSiY)复合涂层热腐蚀行为的研究[J]. 金属学报, 2012, 48(4): 461-468. [8] 时婧 裴志亮 宫骏 孙超 MUDERS C M 姜辛. Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报, 2012, 48(11): 1349-1356. [9] 王维新 姜肃猛 卫广智 马军 宫骏 孙超. NiCoCrAlYSiB+AlSiY梯度涂层恒温氧化行为[J]. 金属学报, 2011, 47(5): 578-586. [10] 肖金泉 郎文昌 赵彦辉 宫骏 孙超 闻立时. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响[J]. 金属学报, 2011, 47(5): 566-572. [11] 董瑜亮 闫旭波 赵升升 宫骏 孙超. (Ti, Al)N/Ti2AlN涂层的制备[J]. 金属学报, 2010, 46(6): 743-747. [12] 万先松 师玉英 马军 李海庆 宫骏 孙超. 电弧离子镀CrN涂层盐雾腐蚀行为[J]. 金属学报, 2010, 46(5): 600-606. [13] 郎文昌 肖金泉 宫骏 孙超 黄荣芳 闻立时. 轴对称磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响[J]. 金属学报, 2010, 46(3): 372-379. [14] 吴博 李红凯 林国强 付宇 候明 衣宝廉. 不锈钢双极板电弧离子镀Cr1-xNx薄膜改性研究[J]. 金属学报, 2009, 45(9): 1125-1129. [15] 徐朝政 姜肃猛 马军 宫骏 孙超. 两种电弧离子镀Ni-Co-Cr-Al-Si-Y涂层的高温氧化行为[J]. 金属学报, 2009, 45(8): 964-970. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed