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金属学报  2001, Vol. 37 Issue (6): 575-578     
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O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究
伏晓国  刘柯钊  汪小琳  柏朝茂  赵正平  蒋春丽
中国工程物理研究院;绵阳621900
引用本文:

伏晓国; 刘柯钊; 汪小琳; 柏朝茂; 赵正平; 蒋春丽 . O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究[J]. 金属学报, 2001, 37(6): 575-578 .

全文: PDF(139 KB)  
摘要: 采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa.s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.
关键词 合金表面吸附X射线光电子谱    
Key words
收稿日期: 2000-11-14     
ZTFLH:  O614.62  
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