金属学报  1996, Vol. 32 Issue (7): 774-778

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多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究

王凤平;崔明启;王佩璇;方正知

北京科技大学;中国科学院高能物理研究所

STUDY OF MULTILAYER INTERFACE ROUGHNESS BY LOW-ANGLE X-RAY DIFFRACTION

WANG Fengping;CUI Mingqi; WANG Peixuan; FANG Zhengzhi University; of Science and Technology Beijing; Beijing 100083 Institute of High Energy Physics; Chinese Academy of Sciences; Beijing 100039(Manuscript received 1995-10-04)

王凤平;崔明启;王佩璇;方正知. 多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究[J]. 金属学报, 1996, 32(7): 774-778.
, , , . STUDY OF MULTILAYER INTERFACE ROUGHNESS BY LOW-ANGLE X-RAY DIFFRACTION[J]. Acta Metall Sin, 1996, 32(7): 774-778.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(363 KB)   摘要: 对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度． 关键词 ： 多层膜,  磁控溅射,  低角Ｘ射线衍射,  界面粗糙度     Abstract：W/Si multilayer for soft X-ray optics was deposited by magnetron sputtering. The periodicity and interface roughness of the multilayer were studied by low-angle X-ray diffraction at a X-ray diffractometer, and analyzed with dynamical theory of X-ray diffraction. Good fitting between simulational and experimental curve has been obtained with a model that allows for interface asymmetry.Correspondent: WANG Fengping, Department of Material Physics, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083 Key words： multilayer    low-angle X-ray diffraction    interface roughness    magnetron sputtering 收稿日期: 1996-07-18      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 王凤平 崔明启 王佩璇 方正知 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1996/V32/I7/774 1SpillerE,YounKB．SPIE,1993;2011:2882CatichaA．SPIE,1992;1740:813BarbeeJrTW,SPIE,1985;563:24姜晓明．中国科技大学博士学位论文,19895 BerningPH．PhysThinFilms,1963;1:696 UnderwoodJH,BarbeeJrTW．AIPConferenceProceedings,1981;75:1707BoercherDB．SPIE,1991;1547:478李云奇．真空镀膜技术与设备,19899 SpillerE．In:DhezP,WeisbuchCeds．Physics,FabricationandApplicationofMultilayeredStructures．NewYork:Plenum,1987:27 [1] 黄鼎, 乔岩欣, 杨兰兰, 王金龙, 陈明辉, 朱圣龙, 王福会. 基体表面喷丸处理对纳米晶涂层循环氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2023, 59(5): 668-678. [2] 张金钰, 屈启蒙, 王亚强, 吴凯, 刘刚, 孙军. 金属/高熵合金纳米多层膜的力学性能及其辐照效应研究进展[J]. 金属学报, 2022, 58(11): 1371-1384. [3] 曹庆平, 吕林波, 王晓东, 蒋建中. 物理气相沉积制备金属玻璃薄膜及其力学性能的样品尺寸效应[J]. 金属学报, 2021, 57(4): 473-490. [4] 刘艳梅, 王铁钢, 郭玉垚, 柯培玲, 蒙德强, 张纪福. Ti-B-N纳米复合涂层的设计、制备及性能[J]. 金属学报, 2020, 56(11): 1521-1529. [5] 李文涛,王振玉,张栋,潘建国,柯培玲,汪爱英. 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层[J]. 金属学报, 2019, 55(5): 647-656. [6] 吴厚朴,田修波,张新宇,巩春志. 双脉冲HiPIMS放电特性及CrN薄膜高速率沉积[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 299-307. [7] 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(3): 308-316. [8] 时惠英, 杨超, 蒋百灵, 黄蓓, 王迪. 双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 927-934. [9] 刘进,劳远侠,汪渊. Cu对AlN/TiN-Cu复合多层膜微观结构和力学性能的影响[J]. 金属学报, 2017, 53(4): 465-471. [10] 王尧,朱晓莹,刘贵民,杜军. Cu/Ni和Cu/Nb纳米多层膜的应变率敏感性[J]. 金属学报, 2017, 53(2): 183-191. [11] 隋旭东,李国建,王强,秦学思,周向葵,王凯,左立建. 钛合金切削用Ti1-xAlxN涂层的制备及其切削性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 741-746. [12] 楼白杨,王宇星. Mo含量对CrMoAlN薄膜微观结构和摩擦磨损性能的影响*[J]. 金属学报, 2016, 52(6): 727-733. [13] 吴法宇,李建伟,齐羿,丁梧桐,樊子铭,周艳文. 粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1595-1600. [14] 孙军, 张金钰, 吴凯, 刘刚. Cu系纳米金属多层膜微柱体的形变与损伤及其尺寸效应*[J]. 金属学报, 2016, 52(10): 1249-1258. [15] 齐东丽, 雷浩, 范迪, 裴志亮, 宫骏, 孙超. Mo含量对CrMoN复合涂层的组织结构和性能的影响[J]. 金属学报, 2015, 51(3): 371-377. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed