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金属学报  1992, Vol. 28 Issue (7): 85-89    
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钢表面化学气相沉积TiC晶体的择优取向
郭成言;後藤孝;平井敏雄
吉林工学院材料工程系;长春130012;日本东北大学;日本东北大学
PREFERRED ORIENTATION OF DEPOSITED TiC COATING ON STEEL BY CVD
GUO Chengyan (Jilin Institute of Technology; Changchun); GOTO Takashi; HIRAI Toshio (Tohoku University; Japan)
引用本文:

郭成言;後藤孝;平井敏雄. 钢表面化学气相沉积TiC晶体的择优取向[J]. 金属学报, 1992, 28(7): 85-89.
, , . PREFERRED ORIENTATION OF DEPOSITED TiC COATING ON STEEL BY CVD[J]. Acta Metall Sin, 1992, 28(7): 85-89.

全文: PDF(1100 KB)  
摘要: 本文用化学气相沉积(CVD)法,以TiCl_4-CH_4-H_2为原料气体,在不锈钢表面获得了致密的TiC膜.研究了TiC的成膜速度、表面形貌和晶体择优取向与沉积条什的关系.结果表明,沉积温度T_(dep),碳钛比CH_4/TiCl_4强烈地影响了TiC的成膜速度、表面形貌和晶体择优取向.CH_4/TiCl_4低时,TiC晶体的择优取向为(220):而CH_4/TiCl_4高时,TiC晶体的择优取向为(200).TiC晶体的择优取向主要取决于气氛中活性碳的平衡浓度。
关键词 择优取向成膜速度表面形貌活性碳的平衡浓度    
Abstract:Investigation was made of the deposition rate, surface morphology and crystal preferred orientation of the dense TiC coating onto austenitic stainless steel in relation with CH_4/TiCl_4 mole ratio and temperature adopted in CVD processing. When the CH_4/TiCl_4 ratio is low or high, their preferred orientation may be (220) or (200), respectively, which is mainly dependent on the equilibrium concentration of active carbon in vapour phase.
Key wordsTiC coating    preferred orientation    deposition rate    surface morphology
收稿日期: 1992-07-18     
1 Ruppert W, Muenster A. US Pat. 2,962, 1954: 388
2 Takahashi T, Sugiyama K, Tomita K. J Electrochem Soc, 1967; 114: 1230
3 Nickl J J, Reiche M, Vesper R. In: Glaski F A ed., Proc 3rd Int Conf on Chemical Vapour Deposition, Electrochemical Society, Princetown, 1972: 369
4 Steinmann P A, Hintermann H E. J Vac Sci Technol, 1985; A 3: 2394
5 Kim D G, Yoo J S, Chun J S. J Vac Sci Technol, 1986; A4: 219
6 Yoon S G, Kim H G, Chun J S. J Mater Sci, 1987; 22: 2629
7 Schintlmeister W, Pacher O, Pfaffinger K, Raine T. J Electrochem Soc, 1976; 123: 924
8 Vuorinen S, Horsewell A. J Met Sci, 1982; 17: 589
9 Ljungqvist R. In: Glaski F A ed., Proc 3rd Int Confon Chemical Vapour Deposition, Electrochemical Society, Princetown, 1972: 363
10 伊藤秀章,榷田正夫,松山幸三.金属表面技术,1984;35:590
11 Ruppert W. In: Glaski F A ed., Proc 3rd Int Confon Chemical Vapour Deposition, Electrochemical Society, Princetown, 1972: 340
12 Lotgering F K. J Inorg Nucl Chem, 1959; 9: 113
[1] 刘海霞, 陈金豪, 陈杰, 刘光磊. NaCl溶液腐蚀后304不锈钢的射流空蚀特征[J]. 金属学报, 2020, 56(10): 1377-1385.
[2] 李双明, 王斌强, 刘振鹏, 钟宏, 胡锐, 刘毅, 罗锡明. 高熔点金属Ir和Mo电子束区熔中不同取向晶体的竞争生长[J]. 金属学报, 2018, 54(10): 1435-1441.
[3] 刘印,刘铁,王强,王慧敏,王丽,赫冀成. 强磁场热处理对TbFe2和Tb0.27Dy0.73Fe1.95合金晶体取向、微观形貌和磁致伸缩性能的影响[J]. 金属学报, 2013, 49(9): 1148-1152.
[4] 刘庆华,黄裕金,刘剑,胡侨丹,李建国. Ni-Fe-Ga-Co磁性形状记忆合金定向凝固稳定生长区的组织及择优取向[J]. 金属学报, 2013, 29(4): 391-398.
[5] 刘洋,向伟,王博宇. 脉冲离子束辐照对TiH2膜表面微观结构的影响[J]. 金属学报, 2013, 49(10): 1269-1274.
[6] 梁永煌 满瑞林. Al管表面有机杂化膜的制备及性能表征[J]. 金属学报, 2010, 46(12): 1522-1528.
[7] 马天宇 ; 严密; 王庆伟 . <110>取向Tb--Dy--Fe--Co 合金棒的磁致伸缩均匀性[J]. 金属学报, 2007, 43(7): 688-692 .
[8] 谢华; 刘剑; 霍颜秋; 李建国 . 定向凝固铁磁形状记忆合金Co-Ni-Ga的择优取向及其组织演化[J]. 金属学报, 2007, 43(4): 417-421 .
[9] 黄辉; 朱明伟; 宫骏; 孙超; 姜辛 . 溶剂、溶胶稳定剂和热处理对溶胶--凝胶法制备的ZnO薄膜微观结构的影响[J]. 金属学报, 2007, 43(10): 1043-1047 .
[10] 李健; 朱洁 . 恒电流电沉积法制备Cu-In薄膜的研究[J]. 金属学报, 2006, 42(6): 667-672 .
[11] 李铸国; 华学明; 吴毅雄; 三宅正司 . 低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响[J]. 金属学报, 2005, 41(10): 1087-1090 .
[12] 张文魁; 黄辉; 甘永平 . Pd/Y薄膜在气态吸放氢过程中的表面形貌和可转换光学特性[J]. 金属学报, 2003, 39(9): 974-978 .
[13] 唐武; 徐可为; 王平; 李弦 . Au/NiCr/Ta多层金属膜择优取向与残余应力的关系[J]. 金属学报, 2002, 38(9): 932-935 .
[14] 于利根;何家文;B.C.Hendrix. 择优取向对X射线应力测试的影响[J]. 金属学报, 1998, 34(6): 667-672.
[15] 蒋成保;周寿增;张茂才;王润. 定向凝固TbDyFe合金的取向、组织和磁致伸缩性能[J]. 金属学报, 1998, 34(2): 164-170.