金属学报  2003, Vol. 39 Issue (5): 516-520

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脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN 硬质薄膜的力学性能

黄美东 孙超

中国科学院金属研究所 110016

黄美东; 孙超 . 脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN 硬质薄膜的力学性能[J]. 金属学报, 2003, 39(5): 516-520 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(163 KB)   摘要: 利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN 硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明，与直流偏压相比，脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度，大大减少薄膜表面的大颗粒污染，改善表面形貌，而薄膜的综合力学性能仍保持良好，说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径。 关键词 ： 电弧离子镀,  低温沉积,  脉冲偏压     Key words： 收稿日期: 2002-07-01      ZTFLH:  TB43   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 黄美东 孙超 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y2003/V39/I5/516 [1] Perry A J. Thin Solid Films, 1981; 81: 357 [2] Rudigier H, Bergmann E, Vogel J. Surf Coat Technol, 1988; 36: 675 [3] Ljungcrantz H, Hultman L, Sundgren J E, Karisson L. J Appl Phys, 1995; 78: 832 [4] Gahlin R, Bromark M, Hedenquist P, Hogmark S, Hakanson G. Surf Coat Technol, 1995; 76/77: 174 [5] Olbrich W, Fessmann J, Kampschulte G, Ebberink J. Surf Coat Technol, 1991; 49: 258 [6] Olbrich W, Kampschulte G. Surf Coat Technol, 1993; 59: 274 [7] Fessmann J, Olbrich W, Kampschulte G, Ebberink J. Mater Sci Eng, 1991; A140: 830 [8] Huang M D, Lin G Q, Dong C, Sun C, Wen L S. Acta Metall Sin, 2003; 39: 516(黄美东,林国强,董闯,孙超,闻立时.金属学报,2003;39: 516) [9] Huang M D. PhD Thesis, Dalian University of Technollogy, Dalian, 2002(黄美东.大连理工大学博士学位论文,大连,2002) [10] Rudigier H, Bergmann E, Vogel J. Surf Coat Technol, 1988; 36: 675 [11] Johnsen O A, Dontje J H, Zenner H R D. Thin Solid Films, 1987; 153: 75 [12] Leoni M, Scardi P, Rossi S, Fedrizzi L, Massiani Y. Thin Solid Films, 1999; 345: 263 [13] Griepentrog M, Mackrodt B, Mark G, Linz T. Surf Coat Technol, 1995; 74/75: 326 [14] Messier R, Giri A P, Roy R A. J Vac Sci Technol, 1984; A2: 500 [1] 刘冠熙, 黄光宏, 罗学昆, 申造宇, 何利民, 李建平, 牟仁德. 表面喷丸处理对NiCrAlYSi涂层恒温氧化行为的影响[J]. 金属学报, 2021, 57(5): 684-692. [2] 彭新, 姜肃猛, 孙旭东, 宫骏, 孙超. 梯度NiCoCrAlYSi涂层的循环氧化及热腐蚀行为*[J]. 金属学报, 2016, 52(5): 625-631. [3] 韩克昌,刘一奇,林国强,董闯,邰凯平,姜辛. 宽固溶区过渡金属氮化物MNx (M=Ti, Zr, Hf)硬质薄膜原子尺度强化机制研究*[J]. 金属学报, 2016, 52(12): 1601-1609. [4] 吴多利, 姜肃猛, 范其香, 宫骏, 孙超. 镍基高温合金Al-Cr涂层的恒温氧化行为*[J]. 金属学报, 2014, 50(10): 1170-1178. [5] 于大千,卢旭阳,马军,姜肃猛,刘山川,宫骏,孙超. 梯度NiCrAlY涂层的1000和1100 ℃氧化行为研究[J]. 金属学报, 2012, 48(6): 759-768. [6] 常正凯, 肖金泉, 陈育秋, 刘山川, 宫骏, 孙超. 电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究[J]. 金属学报, 2012, 48(5): 547-554. [7] 卢旭阳, 于大千, 姜肃猛, 刘山川,宫骏, 孙超. (NiCoCrAlYSiB+AlSiY)复合涂层热腐蚀行为的研究[J]. 金属学报, 2012, 48(4): 461-468. [8] 时婧 裴志亮 宫骏 孙超 MUDERS C M 姜辛. Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报, 2012, 48(11): 1349-1356. [9] 王维新 姜肃猛 卫广智 马军 宫骏 孙超. NiCoCrAlYSiB+AlSiY梯度涂层恒温氧化行为[J]. 金属学报, 2011, 47(5): 578-586. [10] 肖金泉 郎文昌 赵彦辉 宫骏 孙超 闻立时. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响[J]. 金属学报, 2011, 47(5): 566-572. [11] 董瑜亮 闫旭波 赵升升 宫骏 孙超. (Ti, Al)N/Ti2AlN涂层的制备[J]. 金属学报, 2010, 46(6): 743-747. [12] 万先松 师玉英 马军 李海庆 宫骏 孙超. 电弧离子镀CrN涂层盐雾腐蚀行为[J]. 金属学报, 2010, 46(5): 600-606. [13] 郎文昌 肖金泉 宫骏 孙超 黄荣芳 闻立时. 轴对称磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响[J]. 金属学报, 2010, 46(3): 372-379. [14] 李铸国 三宅正司. 反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO2薄膜的结构与光学性能[J]. 金属学报, 2010, 46(1): 13-18. [15] 吴博 李红凯 林国强 付宇 候明 衣宝廉. 不锈钢双极板电弧离子镀Cr1-xNx薄膜改性研究[J]. 金属学报, 2009, 45(9): 1125-1129. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed