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金属学报  2007, Vol. 43 Issue (3): 269-272     
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用正电子湮没技术研究Nb在TiAl合金中的掺杂效应
张兰芝 王宝义 王丹妮 魏 龙 林均品 王文俊
中国科学院高能物理研究所
STUDIES OF Nb–TiAl ALLOY BY POSITRON ANNIHILATION TECHNIQUES
ZHANG Lanzhi; WANG Baoyi;WANG Danni; WEI Long; LIN Junpin;WANG Wenjun
Key Laboratory of Nuclear Analysis Techniques; Institute of High Energy Physics; Chinese Academy of Sciences; Beijing 100049
引用本文:

张兰芝; 王宝义; 王丹妮; 魏龙; 林均品; 王文俊 . 用正电子湮没技术研究Nb在TiAl合金中的掺杂效应[J]. 金属学报, 2007, 43(3): 269-272 .
, , , , , . STUDIES OF Nb–TiAl ALLOY BY POSITRON ANNIHILATION TECHNIQUES[J]. Acta Metall Sin, 2007, 43(3): 269-272 .

全文: PDF(696 KB)  
摘要: 电子湮没寿命谱(PALS)和符合多普勒展宽(CDB)技术研究了不同含量的Nb元素对Ti–49Al合金的掺杂效应.研究结果表明:低含量掺杂时,Nb原子主要偏聚在合金晶界缺陷处,提高了晶界位置的自由电子密度,有利于改善合金的室温韧性;而较高含量的Nb掺杂时,由于形成了新的晶体结构,合金基体及晶界处的自由电子密度减小,导致合金的脆性增加.
关键词 正电子湮没寿命二维符合多普勒TiAl合金    
Abstract:Positron annihilation lifetime and coincidence Doppler broadening measurements have been performed in Ti51Al49 alloy with different amounts of Nb doped. The experimental results indicate that when a low mount of Nb atoms is added into Ti51Al49 alloy, the Nb atoms mainly aggregate at grain boundaries, and then the free electron density increases, which reduces the brittleness of TiAl alloys. In contrast, the density of free electron in grain boundaries and in bulk are both decrease in high Nb doped alloy, due to the formation of the new order structure, which increases the brittleness of TiAl alloys.
Key wordspositron annihilation lifetime    coincidence Doppler broadening
收稿日期: 2006-08-10     
ZTFLH:  TG146.2  
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