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金属学报  2004, Vol. 40 Issue (10): 1064-    
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大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算
郭慧梅 林国强 盛明裕 王德真 董 闯 闻立时
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室; 大连 116024
Analysis and Calculation of Forces on Macroparticles in Plasma Sheath
GUO Huimei; LIN Guoqiang; SHENG Mingyu; WANG Dezhen; DONG Chuang;WEN Lishi
State Key Laboratory for Materials Modification by Laser; Ion and Electron beams; Dalian University of Technology; Dalian 116024
引用本文:

郭慧梅; 林国强; 盛明裕; 王德真; 董闯; 闻立时 . 大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算[J]. 金属学报, 2004, 40(10): 1064-.
, , , , , . Analysis and Calculation of Forces on Macroparticles in Plasma Sheath[J]. Acta Metall Sin, 2004, 40(10): 1064-.

全文: PDF(57891 KB)  
摘要: 用Edelberg 和Aydil的等离子体鞘层模型, 对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析和计算, 为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证。
关键词 大颗粒电弧离子镀脉冲偏压    
Abstract:Applying the plasma sheath models given by Edlberg and Aydil, the charging effect and forces acting on macroparticles are analyzed and calculated in pulsed-bias arc ion plating, which gives an evidence to the experimental phenomenon and physical model in which macroparticles would be repulsed from electric force and hence are significantly reduced.
Key wordsmacroparticle    arc ion plating    pulsed bias
收稿日期: 2003-11-13     
ZTFLH:  TB43  
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