氯化物熔盐中Nd~(3+)在液体Ga电极上还原的电化学行为

金属学报

1991, Vol. 27

Issue (3): 111-115

论文

本期目录 | 过刊浏览

氯化物熔盐中Nd~(3+)在液体Ga电极上还原的电化学行为

杜森林;苏明忠

中国科学院长春应用化学研究所;中国科学院长春应用化学研究所

ELECTROCHEMICAL BEHAVIOUR OF Nd~3+ REDUCED ON LIQUID Ga ELECTRODE IN MOLTEN CHLORIDE

DU Senlin;SU Mingzhong;Changchun Institute of Applied Chemistry; Academia Sinica

引用本文:

杜森林;苏明忠. 氯化物熔盐中Nd~(3+)在液体Ga电极上还原的电化学行为[J]. 金属学报, 1991, 27(3): 111-115.
, . ELECTROCHEMICAL BEHAVIOUR OF Nd~3+ REDUCED ON LIQUID Ga ELECTRODE IN MOLTEN CHLORIDE[J]. Acta Metall Sin, 1991, 27(3): 111-115.

全文: PDF(398 KB)

摘要: 本文利用循环V-A法(CV)研究了Nd~(3+)在液体Ga电极上还原的电化学反应动力学。结果表明,Nd~(3+)在Ga电极上的还原是分步进行的。第一步在较高的电位扫描速度下为扩散控制的可逆电荷传递反应,即Nd~(3+)+e?Nd~(2+);在电位扫描速度较低时,随后的化学反应为第一步反应的控制步骤,即Nd~(3+)+e?快Nd~(2+)+mCl→慢NdCl_m~(2-m)。第二步为不可逆的电荷传递反应,即沉积的金属Nd与Ga合金化,Nd~(2+)+2e→Nd(Ga)。估算了该反应的标准反应速度常数为7.0×10~(-3)cm/s。

关键词 ：熔融盐, Ga-Nd合金, Nd, 循环伏安法

Abstract：The kinetics of electrochemical reaction of Nd~(3+) reduced on liquid Gaelectrode has been studied by cyclic voltammetry (CV) in molten chloride at 1073K.The results show that the reduction of Nd~(3+)? on Ga electrode proceeds in consequenttwo steps. For the first step, it is found to be a diffusion controlled reversible re-action at higher rate of potential scan, i. c., Nd~(3+)+e=Nd~(2+) and an irreversible rea-ction controlled by following chemical reaction at lower rate, i. c., Nd~(3+)+e?Nd~(2+)+mCl NdCl'_m~(-m). For the second step, alloying reaction of deposited Nd with Ga canbe observed and the reaction is found to irreversible, Nd~(2+)+2e→Nd(Ga). The stand-ard rate constant of this reactiin is estimated to be 7.0×10~(-3) cm/s.

Key words： Ga-Nd alloy molten salt Nd cyclic voltammetry

收稿日期: 1991-03-18

	服务

	把本文推荐给朋友
	加入引用管理器
	E-mail Alert
	RSS
	作者相关文章
	杜森林
	苏明忠
44.8K

链接本文:

https://www.ams.org.cn/CN/ 或 https://www.ams.org.cn/CN/Y1991/V27/I3/111

1 杜森林,杜富英,李宝善,路连清,唐定骧.中国稀土学报,1986;4(4) :11
2 Khasgiwale K A, Mehta M M, Pappachan A L, Sundaresan M. J Electrochem Soc, India. 1978; 27(2) : 107
3 Khasgiwale K A, Mehta M M, Pappachan A L, Sundaresan M. J Electrochem Soc India. 1982; 31(2) : 13
4 杨绮琴,伍泽荣,洪惠婵.中国稀士学报,1989;7(1) :1
5 Zing C A, Su Mingzong, Du Senlin, Tang Dingxiang, J Electroanal Chem and Interfacial Electrochem, 1989; 263(2) : 399
6 杨登五,稀有金属,1988;7(3) :225
7 1987; (4) : 770
8 苏明忠,杜森林,唐定骧.中国稀土学报,1988;6(2) :81
9 Nicholson R S, Shain I, Anal Chem, 1964; 36: 706
10 Bard A J, Faulkner L R. Electrochemical Methods, Fundamentals and Applications, New York, Wiley, 1980
11 Nicholson R S, Anal Chem, 1965; 37: 1351
12 Su M, Du S. Tang D. Rare Metals. 1990; 9(3) : 12
13 杨振国,杜维玺,杜森林,刘素兰.中国稀土学报,1989;7(4) :54

[1]	吴玉程, 高志强, 徐光青, 刘家琴, 轩海成, 刘友好, 衣晓飞, 陈静武, 韩培德. 烧结NdFeB永磁材料腐蚀与防护的研究现状及挑战[J]. 金属学报, 2021, 57(2): 171-181.
[2]	何贤美, 童六牛, 高成, 王毅超. Nd含量对磁控溅射Si(111)/Cr/Nd-Co/Cr薄膜结构与磁性的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(10): 1349-1358.
[3]	杨玉林, 穆张岩, 范铮, 淡振华, 王莹, 常辉. 电化学脱合金制备纳米多孔Ag及其甲醛检测性能[J]. 金属学报, 2019, 55(10): 1302-1310.
[4]	李俊,刘文朋,任伊宾,沈明钢,杨柯. 物理真空去合金法制备微米级多孔不锈钢[J]. 金属学报, 2017, 53(5): 524-530.
[5]	袁训华, 张启富. 22MnB5热成形钢奥氏体化时热镀Al-10%Si镀层组织的演化[J]. 金属学报, 2017, 53(11): 1495-1503.
[6]	奚廷斐, 魏利娜, 刘婧, 刘小丽, 甄珍, 郑玉峰. 镁合金全降解血管支架研究进展[J]. 金属学报, 2017, 53(10): 1153-1167.
[7]	李振亮,刘飞,袁爱萍,段宝玉,李晓伟,李一鸣. 轧制变形对喷射沉积含Nd镁合金织构及LPSO相的影响^*[J]. 金属学报, 2016, 52(8): 938-944.
[8]	薛云,杨雪,颜永得,张密林,纪德彬,李恩雨,韩伟. 在AlCl₃的辅助下从LiCl-KCl-AlCl₃-Nd₂O₃熔盐中电解提取Nd^*[J]. 金属学报, 2016, 52(7): 883-889.
[9]	卢艳丽,卢广明,胡婷婷,杨涛,陈铮. 晶体相场法研究Kirkendall效应诱发的相界空洞的形成和演变^*[J]. 金属学报, 2015, 51(7): 866-872.
[10]	马文婧,柯常波,周敏波,梁水保,张新平. Sn/Cu互连体系界面和金属间化合物层Kirkendall空洞演化和生长动力学的晶体相场法模拟^*[J]. 金属学报, 2015, 51(7): 873-882.
[11]	文怀梁, 董俊华, 柯伟, 陈文娟, 阳靖峰, 陈楠. 模拟高放废物地质处置环境下重碳酸盐浓度对低碳钢活化/钝化腐蚀倾向的影响^*[J]. 金属学报, 2014, 50(3): 275-284.
[12]	崔崇亮,朱天龙,冷哲,巫瑞智,张景怀,张密林. 复合添加Y和Nd对Mg-Li合金显微组织及室温压缩织构的影响[J]. 金属学报, 2012, 48(6): 725-732.
[13]	李勋平周敏波夏建民马骁张新平. 界面耦合作用对Cu(Ni)/Sn-Ag-Cu/Cu(Ni)\,BGA焊点界面IMC形成与演化的影响[J]. 金属学报, 2011, 47(5): 611-619.
[14]	程宁郭正洪孟庆平. 用于描述奥氏体/马氏体界面的修正模型[J]. 金属学报, 2010, 46(4): 418-422.
[15]	包小倩高学绪朱洁张茂才周寿增. Nd含量对纳米晶Nd_xFe_94-xB₆合金磁性能的影响[J]. 金属学报, 2009, 45(8): 988-993.

Viewed

Full text

Abstract

Cited

Shared

Discussed