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金属学报  2006, Vol. 42 Issue (7): 763-769     
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金刚石薄膜与WC--Co硬质合金结合力的改善
李建国 胡东平 梅 军 刘 实 李依依
中国工程物理研究院结构力学研究所; 绵阳 621900
Enhancing Adhesion Between Diamond Film and WC--Co Substrate
LI Jianguo; Hu Dongping; MEI Jun;LIU Shi; LI Yiyi
Institute of Structure Mechanics; China Academy of Engineering Physics; Mianyang 621900
引用本文:

李建国; 胡东平; 梅军; 刘实; 李依依 . 金刚石薄膜与WC--Co硬质合金结合力的改善[J]. 金属学报, 2006, 42(7): 763-769 .
, , , , . Enhancing Adhesion Between Diamond Film and WC--Co Substrate[J]. Acta Metall Sin, 2006, 42(7): 763-769 .

全文: PDF(1460 KB)  
摘要: 利用SEM、XRD研究了Murakami溶液和H2等离子体处理对硬质合金表面形貌、物相结构的影响,并对硬质合金工具进行了复合金刚石薄膜涂层,采用压痕法和实际钻削实验检测了金刚石薄膜/基体间的结合力。结果表明,Murakami溶液处理硬质合金可产生均匀的表面沟槽,其金刚石薄膜的临界载荷约为1.5kN,而用该方法制备的涂层钻头加工性能很差。H2等离子体处理促进了硬质合金基体表面的WC晶粒更加粗大、致密,其金刚石薄膜的临界载荷超过1.5kN,用该方法制备的涂层钻头的加工性能优良。
关键词 金刚石薄膜硬质合金结合力    
Abstract:The effect of Murakami solution and H2 plasma treatment on the morphology and structure of tungsten carbide-cobalt has been investigated by the use of SEM and XRD. Then these pretreated tungsten carbide-cobalt tools were coated with multiple diamond film. Finally, the adhesion between diamond film and WC-Co substrate was evaluated with indentation method and drilling test. The Murakami solution treatment induced uniform corrugation on tungsten carbide-cobalt surface, as a result, the critical load of diamond film of this treatment is about 1.5kN examined with indentation method, but the diamond coated drill pretreated with Murakami solution has a bad cutting performance. H2 plasma treatment promoted WC grain more coarse and closed, thus, the critical load of diamond film of this treatment is more than 1.5kN and the diamond coated drill pretreated with H2 plasma demonstrated excellent cutting performance.
Key wordsdiamond film    tungsten carbide-cobalt    adhesion    Murakami solution
收稿日期: 2005-06-21     
ZTFLH:  TB383  
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