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金属学报  2003, Vol. 39 Issue (2): 172-174     
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Au/NiCr/Ta多层金属膜退火后的电阻率异常增大
唐武; 徐可为; 王平; 李弦
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室; 西安 710049
Abnormal Increase of the Resistivity of Au/NiCr/Ta Multilayer After Annealing
TANG Wu; XU Kewei; WANG Ping; LI Xian
State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials; Xi’an Jiaotong University; Xi’an 710049
引用本文:

唐武; 徐可为; 王平; 李弦 . Au/NiCr/Ta多层金属膜退火后的电阻率异常增大[J]. 金属学报, 2003, 39(2): 172-174 .
, , , . Abnormal Increase of the Resistivity of Au/NiCr/Ta Multilayer After Annealing[J]. Acta Metall Sin, 2003, 39(2): 172-174 .

全文: PDF(125 KB)  
摘要: 用磁控溅射方法在Al2O3基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜, 通过X射线衍射技术研究退火前后薄膜晶体取向的变化, Auger电子能谱分析退火前后薄膜沿深度方向的元素分布, 四点探针测试退火前后薄膜电阻率. 结果表明: 退火后111Au与200Au衍射强茺相对比值减小; 薄膜表面电阻率异常增大; 退火湿度越高, 薄膜表面电阻率越大. 分析认为主要是由于Ni, Cr元素向金膜表层扩散导致薄膜表面电阻率异常增大.
关键词 Au/NiCr/Ta多层金属膜电阻率    
Key words
收稿日期: 2002-04-16     
ZTFLH:  TB383  
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