Al2O3陶瓷的氢致滞后断裂

金属学报

2001, Vol. 37

Issue (9): 932-934

论文

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Al2O3陶瓷的氢致滞后断裂

史博　宿彦京　乔利杰　褚武扬

北京科技大学材料物理系;北京100083

引用本文:

史博; 宿彦京; 乔利杰; 褚武扬 . Al2O3陶瓷的氢致滞后断裂[J]. 金属学报, 2001, 37(9): 932-934 .

全文: PDF(137 KB)

摘要: Al2O3封装陶瓷在恒载荷下动态充氢能发生氢致滞后断裂,其门槛应力强度因子为KIH=0.71KIc(i=20 mA/cm2)及0.45KIc(i=400 mA/cm2).氢致开裂区全是沿晶断口,而空拉断口则是沿晶和解理构成的混合断口

关键词 ： A12O3, 封装器件, 氢致开裂

Key words：

收稿日期: 2001-01-09

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TB32

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