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金属学报  2001, Vol. 37 Issue (7): 781-784     
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电磁搅拌对过共晶Al-Si合金初生Si分布的影响
毛卫民  李树索  赵爱民  崔成林  钟雪友
北京科技大学铸造研究所;北京100083
引用本文:

毛卫民; 李树索; 赵爱民; 崔成林; 钟雪友 . 电磁搅拌对过共晶Al-Si合金初生Si分布的影响[J]. 金属学报, 2001, 37(7): 781-784 .

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摘要: 系统研究了电磁搅拌下过共晶Al-Si合金初生Si的偏析规律.实验表明,虽然电磁搅拌引起过共晶Al-Si合金中初生Si的显著细化和圆整化,但常会使坯料表面出现初生Si偏析层,合金中Si含量越大,初生Si偏析层越厚;提高电磁搅拌功率、降低合金熔体冷却速度都会减小或消除初生Si偏析层;在电磁搅拌条件下,坯料表面产生初生Si偏析层的主要原因是固一液界面处的温度梯度过大和存在一层流附面层.
关键词 电磁搅拌过共晶Al-Si合金    
Key words
收稿日期: 2000-11-15     
ZTFLH:  TG146.2  
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