金属学报  1979, Vol. 15 Issue (4): 566-597

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近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析

李永森

中国科学院金属研究所

ELECTRON DIFFRACTION ANALYSIS OF Ti_3Si-PHASE IN NEAR α-Ti ALLOY

Li Yongsen Institute of Metal Research; Academia Sinica

李永森. 近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析[J]. 金属学报, 1979, 15(4): 566-597.
. ELECTRON DIFFRACTION ANALYSIS OF Ti_3Si-PHASE IN NEAR α-Ti ALLOY[J]. Acta Metall Sin, 1979, 15(4): 566-597.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(716 KB)   摘要: <正> 在近α-Ti合金中加入适量的Si,能提高其高温强度。Si与Ti、Zr形成细小的硅化物相,分布于α相的内部和边界,起到强化作用。我们曾用电子衍射方法,对几种含Si的钛合金的弥散相进行分析。结果,除了(Ti,Zr)_5Si_3和Zr_5Si_3两种六方晶格的硅化物相外,许多含硅的钦合金也存在四方晶格的TiSi相。 收稿日期: 1979-04-18      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 李永森 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1979/V15/I4/566 [1] Blackburn, M. J., Trans, AIME, 239 (1967) , 287． [2] 193 (1970) , № 2, 393． [3] Lundstrom, T. and Snell, Per-Olof, Acta Chem. Scand., 21 (1967) , 1343． No related articles found! Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed