金属学报  1994, Vol. 30 Issue (23): 503-507

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脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度

阎鹏勋;杨思泽;陈熙琛

中国科学院物理研究所

ADHESIVE STRENGTH OF TiN COATING DEPOSITED BY PULSED HIGH ENERGY DENSITY PLASMA

YAN Pengxun; YANG Size; CHEN Xishen (Institute of physics; Chinese Academy of Sciences; Beijing)(Manuscript received 3 May; 1994;in revised form 28 July; 1994)

阎鹏勋;杨思泽;陈熙琛. 脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度[J]. 金属学报, 1994, 30(23): 503-507.
, , . ADHESIVE STRENGTH OF TiN COATING DEPOSITED BY PULSED HIGH ENERGY DENSITY PLASMA[J]. Acta Metall Sin, 1994, 30(23): 503-507.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(349 KB)   摘要: 本文用脉冲高能量密度等离子体技术，在室温条件下，成功地在ＧＣｒ１５钢表面沉积了性能良好的氮化钛薄膜。用自动划痕试验仪测量了氮化钛薄膜的结合强度。研究结果表明：表征薄膜结合强度的临界载荷有相当高的值；氮化钛薄膜的临界载荷随脉冲轰击次数、内外电极的电压变化而变化。对沉积膜结合强度的这些变化给予了理论上的解释与讨论。 关键词 ： 脉冲等离子体,  氮化钛膜,  结合强度     Abstract：The quality TiN film was deposited onto GCr15 steel substrate by the pulsed high energy density plasma technique at room temperature. The adhesive strentgh of TiN coating to GCr15 steel substrate has been satisfactorily measured using automatic scratch tester. The critical load with remarkable higher values may be available to characterize theadhesive strength of the coating. The critical load of the TiN coating was revealed to be varied with numbers of pulsed plasma, the discharge voltage between inner and outer electrodes and pressure of working gases. These have been discussed and explained on the theoretical bases. (Correspondent: YAN Fengxun, associate professor, Institute of physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080) Key words： pulsed plasma    TiN coating    adhesive strength      基金资助:国家自然科学基金 服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 阎鹏勋 杨思泽 陈熙琛 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1994/V30/I23/503 1BhardwajP,GregoryOJ,BraggaK．ApplSurfSci,1991;48//49:5552PrechtW,StermaF．Vacuum,1990;41:22233郭丽萍,黄荣芳,闻立时,庄育智．真空科学与技术,1993;13:3224阎鹏勋,吴宝善．机械工程材料,1992;16(4):725王曦,柳襄怀,郑志宏,黄巍,邹世昌．应用科学学报,1992;10:956白鹏勋,杨恩泽,李兵,陈熙琛．科学通报,(正在印刷)1994;397李兵,刘赤子,杨思泽,吴成,卢伟,沈志刚,任育峰,汪诗金,阎鹏勋．高能量密度等离子体枪及表面改性实验研究,中国科学院物理研究所内部资料,19928BenjaminP,WeaverC．ProcRSocLondon,1960;A254:163 [1] 秦勤, 李程, 何流, 叶陈龙, 臧勇. 基于非对称双悬臂梁模型优化的双金属板界面结合强度研究[J]. 金属学报, 2020, 56(12): 1617-1628. [2] 李继展，付莹，接金川，赵佳蕾，Joonpyo Park，Jongho Kim，李廷举. 连续铸造法制备3003/4004铝合金复层圆铸坯[J]. 金属学报, 2013, 49(3): 297-302. [3] 时婧 裴志亮 宫骏 孙超 MUDERS C M 姜辛. Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报, 2012, 48(11): 1349-1356. [4] 李伟洲 王启民 宫骏 孙超 姜辛. 一步法制备含扩散阻挡层的多层体系及其界面结合强度[J]. 金属学报, 2010, 46(5): 561-568. [5] 徐娜 张甲 侯万良 全明秀 李荣德 常新春. 热处理对高温固体自润滑涂层组织结构及结合强度的影响[J]. 金属学报, 2009, 45(8): 943-948. [6] 姚勇; 李伟洲; 王启民; 宫骏; 孙超; 李家宝 . Cr-O-N 扩散阻挡层对 NiCrAlY 涂层结合性能的影响[J]. 金属学报, 2008, 44(7): 876-882 . [7] 谢飞; 何家文 . 高速钢W18Cr4V离子渗氮层组织对TiN膜与基体结合强度的影响[J]. 金属学报, 2000, 36(10): 1099-1103 . [8] 朱晓东; 黄鹤; 胡奈赛; 何家文 . 用球滚接触疲劳法评定硬质薄膜的结合强度[J]. 金属学报, 1999, 35(5): 523-526 . [9] 张鹏;崔建忠;杜云慧;巴立民. 钢-铝固液相复合中浸镀助焊剂的应用研究[J]. 金属学报, 1997, 33(8): 869-873. [10] 阎鹏勋;杨思泽;孙牧;任育峰;李兵;陈熙琛. 室温低压下脉冲等离子体生长立方氮化硼薄膜[J]. 金属学报, 1995, 31(23): 489-492. [11] 刘长清;李美栓;金柱京;吴维(山文). 精细TiN陶瓷薄膜的抗拉强度和界面结合强度[J]. 金属学报, 1992, 28(9): 91-94. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed