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金属学报  1994, Vol. 30 Issue (23): 503-507    
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脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度
阎鹏勋;杨思泽;陈熙琛
中国科学院物理研究所
ADHESIVE STRENGTH OF TiN COATING DEPOSITED BY PULSED HIGH ENERGY DENSITY PLASMA
YAN Pengxun; YANG Size; CHEN Xishen (Institute of physics; Chinese Academy of Sciences; Beijing)(Manuscript received 3 May; 1994;in revised form 28 July; 1994)
引用本文:

阎鹏勋;杨思泽;陈熙琛. 脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度[J]. 金属学报, 1994, 30(23): 503-507.
, , . ADHESIVE STRENGTH OF TiN COATING DEPOSITED BY PULSED HIGH ENERGY DENSITY PLASMA[J]. Acta Metall Sin, 1994, 30(23): 503-507.

全文: PDF(349 KB)  
摘要: 本文用脉冲高能量密度等离子体技术,在室温条件下,成功地在GCr15钢表面沉积了性能良好的氮化钛薄膜。用自动划痕试验仪测量了氮化钛薄膜的结合强度。研究结果表明:表征薄膜结合强度的临界载荷有相当高的值;氮化钛薄膜的临界载荷随脉冲轰击次数、内外电极的电压变化而变化。对沉积膜结合强度的这些变化给予了理论上的解释与讨论。
关键词 脉冲等离子体氮化钛膜结合强度    
Abstract:The quality TiN film was deposited onto GCr15 steel substrate by the pulsed high energy density plasma technique at room temperature. The adhesive strentgh of TiN coating to GCr15 steel substrate has been satisfactorily measured using automatic scratch tester. The critical load with remarkable higher values may be available to characterize theadhesive strength of the coating. The critical load of the TiN coating was revealed to be varied with numbers of pulsed plasma, the discharge voltage between inner and outer electrodes and pressure of working gases. These have been discussed and explained on the theoretical bases. (Correspondent: YAN Fengxun, associate professor, Institute of physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080)
Key words pulsed plasma    TiN coating    adhesive strength
    
基金资助:国家自然科学基金
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