金属学报  2005, Vol. 41 Issue (9): 985-988

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PCVD 制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征

郭 岩 畅庚榕 马胜利 徐可为

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;西安710049

PREPARATION AND MICROSTRUCTURE CHARACTERISTICS OF SUPER-HARD NANOCOMPOSITE Ti-Si-C-N COATING DEPOSITED BY PULSED DC PCVD

GUOYan; CHANG Gengrong; MA Shengli; XU Kewei

State Key Laboratory for Mechanical Behaviors of Materials; Xi'an Jiaotong University; Xi'an 710049

郭岩; 畅庚榕; 马胜利; 徐可为 . PCVD 制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征[J]. 金属学报, 2005, 41(9): 985-988 .
, , , . PREPARATION AND MICROSTRUCTURE CHARACTERISTICS OF SUPER-HARD NANOCOMPOSITE Ti-Si-C-N COATING DEPOSITED BY PULSED DC PCVD[J]. Acta Metall Sin, 2005, 41(9): 985-988 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(263 KB)   摘要: 用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积 (PCVD) 方法，在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料. 研究了不同SiCl4流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响. X射线衍射 (XRD)、X射线光电子能谱 (XPS)、透射电子显微镜 (TEM) 和扫描电子显微镜 (SEM) 分析结果表明: Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C, N)/a-C/a-Si3N4组成的纳米复合结构，薄膜的晶粒尺寸在225 nm范围内; 当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时，Ti(C, N) 结构转变为TiC, 薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状. 关键词 ： Ti-Si-C-N,  PCVD,  纳米复合薄膜      Abstract：Using an industrial pulsed DC plasma chemical vapor deposition set-up, Ti-Si-C-N coatings were deposited on substrate of high speed steel. The effect of SiCl4 flow rate on chemical composition, microstructure and phases in Ti-Si-C-N coatings was explored by means of XRD, XPS, TEM and SEM. It is suggested that Ti-Si-C-N coatings are of nanocomposite structure composed of nc-Ti(C, N)/a-C/a-Si3N4. The crystalline sizes are in the range of 2-25 nm. When nitrogen content in the coatings was very low, Ti(C, N) changed to TiC and the surface morphologies of Ti-Si-C-N coatings changed from granular grains to strip-shaped grains. Key words： Ti-Si-C-N    PCVD    nanocomposite coating    microstructure 收稿日期: 2005-01-31      ZTFLH:  TG174.44   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 郭岩 畅庚榕 马胜利 徐可为 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y2005/V41/I9/985 [1] Ma D Y,Ma S L, Xu K W. Surf Coat Technol, 2004; 184:182 [2] Ma D Y, Ma S L, Xu K W.Acta Metall Sin,2004;40: 1037 (马大衍,马胜利,徐可为．金属学报, 2004;40:1037) [3] Ma D Y, Ma S L , Xu K W. Acta Metall Sin,2003;39: 1047 (马大衍,马胜利,徐可为．金属学报, 2003;39:1047) [4] Heim D, Holler F, Mitterer C. Surf Coat Technol,1999; 116: 530 [5] Veprek S. Thin Solid Films,1995;268:64 [6] Ma D Y, Ma S L, Xu K W. Tribology, 2003; 215: 476 (马大衍,马胜利,徐可为．摩擦学报,2003;23:476) [7] Ma S L, Ma D Y, Xu K W. Tribology, 2003; 23: 179 (马胜利,马大衍,徐可为．摩擦学报, 2003;23:179) [8] Veprek S. Vaccum, 2002;67:443 [9] Ma S L, Xu K W. Acta Metall Sin, 2004;40:669 (马胜利,徐可为．金属学报,2004;40:669) [10] Ma S L, Xu K W, Jie W. J Vac Sci Technol, 2004; 22B: 1694 [11] Karvankova P. Doctor Degree Thesis,Technical Univer sity Munich, Germany, 2003 [12] Niu X P. Master Degree Thesis, Xi'an Jiaotong University, 2004 (牛新平．西安交通大学硕士学位论文, 2004) [1] 唐瑞鹤 杨志刚 张弛 杨白 刘晓芳 于荣海. Co-C纳米复合薄膜的微结构、磁性能和磁输运特性[J]. 金属学报, 2011, 47(4): 469-474. [2] 牛建钢 王宝军 王翠表 田晓. 第一性原理计算TiN(111)/BN/TiN(111)界面的电子结构、成键特性和结合强度[J]. 金属学报, 2009, 45(10): 1185-1189. [3] 郭岩; 徐彬; 吴贵智; 马胜利; 徐可为 . PCVD法制备的Ti--Si--C--N纳米复合超硬薄膜的高温氧化行为[J]. 金属学报, 2007, 43(2): 159-164 . [4] 郭岩; 畅庚榕; 吴贵智; 马胜利; 徐可为 . 新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜的高温热稳定性[J]. 金属学报, 2006, 42(2): 172-176 . [5] 马大衍; 马胜利; 徐可为; S.Veprek . 残余氧对TiN+Si3N4纳米复合薄膜硬度的影响[J]. 金属学报, 2004, 40(10): 1037-1040 . [6] 马大衍; 王昕; 马胜利; 徐可为 . Ti-Si-N纳米复相薄膜及Si含量对脉冲直流PCVD镀膜质量的影响[J]. 金属学报, 2003, 39(10): 1047-1050 . [7] 马胜利; 李雁淮; 徐可为 . 脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响[J]. 金属学报, 2000, 36(1): 77-80 . [8] 赵程;彭红瑞;李世直. 等离子体化学气相沉积Ti-N-C膜的研究[J]. 金属学报, 1993, 29(1): 87-92. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed