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金属学报  2000, Vol. 36 Issue (8): 805-808     
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纯银等离子体基离子注入Al层的成分及相分析
于伟东 夏立芳
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院; 哈尔滨 150001
引用本文:

于伟东; 夏立芳 . 纯银等离子体基离子注入Al层的成分及相分析[J]. 金属学报, 2000, 36(8): 805-808 .

全文: PDF(158 KB)  
摘要: 采用金属等离子体离子注入的方法, 在Ag基体上注入了Al, 用X射线光电子能谱仪(XPS)对注入层的Al浓度-深度分布和化学态进行了分析, 用 射法(XRD)对注入层和非平衡磁控溅射的Al沉积层相组成进行了测定和比较, 选用小掠射角(3°)XRD对注入层的相组成进行了测定, 结果表明, 注入层中Al浓度沿深度方向逐渐降低, 表面有Ag原子存在;近表面处形成了Ag-Al固溶体并且出现了少量的μ-Ag3Al相
关键词 等离了体基离子注入纯银    
Key words
收稿日期: 2000-02-01     
ZTFLH:  TG174.444 TG166.786  
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