金属学报  2000, Vol. 36 Issue (5): 525-529

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用于微机械器件在Fe-Ni合金电镀沉积膜的性能

陈垚 张轩雄

中国科学院上海冶金研究所; 上海 200050

陈垚; 张轩雄 . 用于微机械器件在Fe-Ni合金电镀沉积膜的性能[J]. 金属学报, 2000, 36(5): 525-529 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(188 KB)   摘要: 结合Ｓｉ体微机械技术和电镀技术加工出Ｆｅ－Ｎｉ／Ｃｕ／Ｓｉ复合悬臂梁, 其中Ｆｅ－Ｎｉ膜厚３μｍ, Ｃｕ膜厚０．２μｍ, 利用共振法首次测出在１．３Ｐａ气压下, 复合悬臂梁中Ｆｅ－Ｎｉ（Ｆｅ６４, Ｎｉ３６, 质量分数％）电镀沉积膜的内耗为１０＾－３, 利用自行设计的微力／微位 天平法, 测出Ｆｅ－Ｎｉ（Ｆｅ５７, Ｎｉ４３）／Ｃｕ／Ｓｉ复合悬臂梁的Ｙｏｕｎｇ‘ｓ模量为１．９×１０＾１１Ｎ／ｍ＾２. 关键词 ： 微机械,  Fe－Ni合金电镀沉积膜     Key words： 收稿日期: 1999-06-25      ZTFLH:  O484.4   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 陈垚 张轩雄 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y2000/V36/I5/525 [1] Hirano T, Fan L S, Gao J Q, Lee W Y. J MEMS,1998;7:149 [2] Toshiki H,Fan L S.SPIE Proc, 1996; 2879:252 [3] Chen Y,Wang W Y.J Funct Mater Devices, 1999; 5: 147(陈 ,王渭源.功能材料与器件学报,1999;5:147) [4] Xiong X G, Zhou Q, Lu D R, Wang W Y. SPIE Procee,1997; 3223: 294 [5] Stoney G G. Proc Roy Soc, 1921; A82: 172 [6] Guo C L, Guo R F, Huang Y H. Chin Sci Bull, 1996;41(9): 851(郭常霖,郭荣发,黄月鸿.科学通报,1996;41(9):851) [7] Kurl H. Stress Wave in Solid. Beijing: Science Press,1958: 122(考尔斯基H.固体中的应力波.北京:科学出版社,1958:122) [8] Grimmett D L, Schwartz M, Nobe K. J Electrochem Soc,1993; 140: 977 [9] Group of"Hardbook of Expansion Alloys". Handbookof Expansion Alloys.Beijing:Metallurgy Industry Press,1979: 19(膨胀合金手册编写组.膨胀合金手册.北京:冶金工业出版社,1979:19) [10] Grimmett D L,Schwarts M, Nobe K. J Electrochem Soc,1993; 140(4): 973 [11] Weast R C. Handbook of Chemistry and Physics. 59th ed,D193, CRC Press, 1978: 564 [12] Pelosin V, Badawi K F, Branger V. Appl Phys Lett, 1995;66(6): 691 [13] Henstock M E, Spencer-Timms E S. Trans Inst Met Finish, 1963; 40: 179 [14] Czerwinski F. Thin Solid Film, 1996; 280: 202 [15] Safranek W H. The Poverties of Electrodeposited Metalsand Alloys. 2nd ed, Orlando, Florida, American Electro-platers and Surface Finishers Society, 1986: 211 [16] Tilmans Harrie A C. Elwenspoek M, Fluitman Jan H J.Sens Actuators, 1992; A30: 35 [1] 任师浩, 刘永利, 孟凡顺, 祁阳. 应变工程中Bi(111)薄膜的半导体-半金属转变及其机理[J]. 金属学报, 2022, 58(7): 911-920. [2] 董彩虹, 刘永利, 祁阳. 厚度对Bi薄膜表面特性和电学性质的影响[J]. 金属学报, 2018, 54(6): 935-942. [3] 孙丽娜, 谭俊, 巴德纯, 原培新. Er3+-Tm3+-Yb3+ 掺杂 Bi4Ti3O12 薄膜的上转换白色荧光和铁电性能*[J]. 金属学报, 2014, 50(1): 88-94. [4] 童六牛; 李泰; 夏爱林; 胡锦莲; 李赞揆 . 磁性隧道结Fe/MgO/Fe(001)的磁性及界面电子结构[J]. 金属学报, 2007, 43(11): 1165-1170 . [5] 张耀; 钟志源; 朱敏 . 脉冲激光沉积制备的HT-LiCoO2薄膜中Li离子表观扩散的研究[J]. 金属学报, 2007, 43(8): 818-822 . [6] 赵文济; 孔明; 乌晓燕; 李戈扬 . TiN/Si3N4纳米多层膜硬度对Si3N4层厚敏感性的研究[J]. 金属学报, 2007, 43(2): 154-158 . [7] 王立锦; 张辉; 滕蛟; 朱逢吾 . Ta种子层对Ni65Co35薄膜微结构和磁性的影响[J]. 金属学报, 2006, 42(9): 979-982 . [8] 付恩刚; 庄大明; 张弓 . 掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制[J]. 金属学报, 2005, 41(3): 333-336 . [9] 邹友生; 汪伟; 郑静地; 孙超; 黄荣芳; 闻立时 . 偏压对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响[J]. 金属学报, 2004, 40(5): 537-540 . [10] 李刘合; 武咏琴; 崔旭明; 张海泉; 张彦华; 夏立芳; 朱剑豪 . 真空阴极弧离子镀类金刚石碳膜Raman光谱研究[J]. 金属学报, 2004, 40(2): 220-224 . [11] 陈志武; 胡乔生 . Sb-Se系和 Ge-Sb-Te 系相变光盘记录介质的热力学参数、微观结构及光学性能[J]. 金属学报, 2003, 39(7): 775-780 . [12] 曹鸿涛; 裴志亮; 孙超 . 透明导电薄膜ZnO:Al(ZAO) 的性能及其在有机发光二极管中的应用[J]. 金属学报, 2003, 39(3): 332-336 . [13] 谭明晖; 杜昊; 卢春燕; 宫骏; 黄荣芳; 闻立时 . 超薄Fe膜吸收率的尺寸效应[J]. 金属学报, 2001, 37(10): 1097-1099 . [14] 何贤美; 童六牛 . 界面散射对Ni80Co20/M(M-Co,Cr,Ag)多层膜各向异性磁电阻的影响[J]. 金属学报, 2001, 37(5): 477-482 . [15] 代由勇; 刘宜华; 萧淑琴; 张林; 吴厚政; 张延忠 . Fe-Cu-Cr-V-Si-B三明治膜的巨磁阻抗效应[J]. 金属学报, 2001, 37(3): 277-280 . Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed