|
|
微型NiFe磁性薄膜元件中Neel畴壁极性的转变过程 |
余晋岳 魏福林 |
上海交通大学信息存储研究中心国家教育部薄膜与微细技术重点实验室;上海 200030 |
|
引用本文:
余晋岳; 魏福林 . 微型NiFe磁性薄膜元件中Neel畴壁极性的转变过程[J]. 金属学报, 2000, 36(4): 359-363 .
[1] Decker S K, Tsang C. IEEE Trans Magn, 1980; MAG 16:643 [2] Tsang C, Decker S K. i Appl Phys, 1981; 52: 2465 [3] Tsang C, Decker S K. i Appl Phys, 1982; 53: 2602 [4] Tsang C. J Appl Phys, 1984; 55: 2226 [5] Ye W C, Yu J Y, Cai B C. J Appl Phys, 1996; 79: 6048 [6] Yu J Y, Zhou Y. Song B Q, Ye W C, Zhang H. J ApplSci, 1996; 14: 318(余晋岳,周勇,宋柏泉,叶伟春,张宏.应用科学学报,1996;14:318) [7] Yu J Y, Zhang M S, Zhou D, Zhang J L, Zhang H, Wei FL. Met Phys Examinat Test, 1998; (1): 34(余晋投影,张明生,周狄,章吉良,张宏,魏福林.物理测试,1998;(1):34) [8] Prutton M. Thin Ferromagnetic Films. London: Butterworths, 1964: 45 |
|
Viewed |
|
|
|
Full text
|
|
|
|
|
Abstract
|
|
|
|
|
Cited |
|
|
|
|
|
Shared |
|
|
|
|
|
Discussed |
|
|
|
|