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金属学报  2000, Vol. 36 Issue (2): 187-190     
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等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析
何承群 国为民
北京科技大学材料系; 北京 100083
引用本文:

何承群; 国为民 . 等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析[J]. 金属学报, 2000, 36(2): 187-190 .

全文: PDF(132 KB)  
摘要: 运用Newton流体力学的微元法分析, 通过对等离子体旋转自耗电极(PREP)端部小熔池中液膜流动的稳态层流假设, 建立了薄膜中流体运动的微分方程. 并运用相关边界条件, 得到了该微分方程的解析解, 由此得到液膜厚度的表达式. 该式表明液膜厚度与等离子体电弧功率. PREP直径及旋转速度存在依赖关系, 通过改变这些工艺参数, 进行了实验验证, 结果表明, 实测的液膜厚度同理论计算值符合较好.
关键词 流场分析离心雾化溶池PREP    
Key words
收稿日期: 1999-06-22     
ZTFLH:  TF123.144 TF123.71  
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