金属学报  1994, Vol. 30 Issue (18): 273-276

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离子束辅助沉积Fe-N薄膜的相形成

江海;武庆兰;陶琨;李恒德

清华大学

FORMATION OF IRON NITRIDE FILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION

JIANG Hai; WU Qinglan; TAO kun; LI Hengde(Tsinghua University; Beijing)

江海;武庆兰;陶琨;李恒德. 离子束辅助沉积Fe-N薄膜的相形成[J]. 金属学报, 1994, 30(18): 273-276.
, , , . FORMATION OF IRON NITRIDE FILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION[J]. Acta Metall Sin, 1994, 30(18): 273-276.

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(246 KB)   摘要: 用离子束辅助沉积方法合成Ｆｅ－Ｎ薄膜，用离子束背散射和Ｘ射线衍射方法分析薄膜成分和结构．结果表明，薄膜的组分（α－Ｆｅ，ζ－Ｆｅ２Ｎ，ε－Ｆｅ（２－３）Ｎ，γ＇－Ｆｅ４Ｎ相等）取决于沉积参数。给出了沉积温度和Ｎ／Ｆｅ原子到达比组成的相区域图． 关键词 ： 氮化铁,  离子束辅助沉积,  磁性薄膜     Abstract：The composition and structure of the Fe-N films were investigated by RBS and XRD.The results of XRD shown that the films consist of γ'-Fe4N, ε-Fe2-3N and ζ-Fe2N phases or mixture of these phases under different deposition parameters. A phase region diagram in dependence on deposition temperature and N / Fe atomic arrival ratio was proposed. Key words： ion beam assisted deposition    iron nitride    magnetic film      服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 江海 武庆兰 陶琨 李恒德 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/      或      https://www.ams.org.cn/CN/Y1994/V30/I18/273 1YasuhiroNagal,AkioTago,KeiichiYanagisawa,TomoyukiToshima．JApplPhys,1987;61:38412KensukeNakajima,ShoichiOkamoto．ApplPhysLett,1990,56:923WangS,KryderNH,JApplPhys,1991;67:51344ShigekiNskagawa,TakehikoHamaguchi,MasahikoNaoe．IEEETransMagn,1992;28:29465KanoA,KazamaNS,FujimoriH,JApplPhys,1982;53:83326MatahiroKomuro,YuzooKozono,MasanobuHanazono,YutakaSugita．JApplPhys,1990;67:51267江海,陶琨,李恒德．金属学报,1993:29:B1738RauschenbachB,KolitschA,HohmuthK,PhysStatSol,1983;A80:471* [1] 何贤美, 童六牛, 高成, 王毅超. Nd含量对磁控溅射Si(111)/Cr/Nd-Co/Cr薄膜结构与磁性的影响[J]. 金属学报, 2019, 55(10): 1349-1358. [2] 代由勇; 刘宜华; 萧淑琴; 张林; 吴厚政; 张延忠 . Fe-Cu-Cr-V-Si-B三明治膜的巨磁阻抗效应[J]. 金属学报, 2001, 37(3): 277-280 . [3] 余晋岳; 魏福林 . 微型NiFe磁性薄膜元件中Neel畴壁极性的转变过程[J]. 金属学报, 2000, 36(4): 359-363 . [4] 晁月盛; 曾繁武 . γ’-Fe4N磁粉的超精细结构及结构转变[J]. 金属学报, 2000, 36(3): 235-238 . [5] 刘思林;于英仪;滕荣厚;徐教仁. 诸因素对制备氮化铁磁性液体的影响[J]. 金属学报, 1998, 34(11): 1223-1226. [6] 朱宏;柳襄怀;任琮欣;陈国梁;邹世昌. 单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构及性能研究[J]. 金属学报, 1995, 31(15): 139-144. [7] 刘捍卫;陈元儒;张绪寿. 离子束辅助沉积TiN膜的摩擦学特性[J]. 金属学报, 1994, 30(19): 323-326. [8] 江海;陶琨;李恒德. 离子束辅助沉积合成B—N薄膜的分析[J]. 金属学报, 1993, 29(4): 77-80. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed