金属学报  2003, Vol. 39 Issue (7): 721-724

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TiN 附着膜的应力-应变关系

覃明 嵇宁

中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 110016

覃明; 嵇宁 . TiN 附着膜的应力-应变关系[J]. 金属学报, 2003, 39(7): 721-724 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(133 KB)   摘要: 利用等离子体辅助化学气相沉积法（PACVD）在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚度的TiN膜.借助X射线应力分析技术和微拉伸设备,测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变,进而求其等效应力等效单轴应变关系,并由此算得它的条件屈服点σ0.1和σ0.2分别为4.2和4.4GPa, 加工硬化指数为0.36.用纳米压痕仪测得其硬度为25GPa,弹性模量为420GPa. TiN 膜在拉伸过程中发生了塑性变形. 关键词 ： TiN膜,  双轴应力,  应力-应变关系     Key words： 收稿日期: 2002-09-12      ZTFLH:  TG113.25   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 覃明 嵇宁 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y2003/V39/I7/721 [1] Chen L Q, Zhao M H, Zhang T Y. J Mech Strength, 2001; 23: 413(陈隆庆,赵明皞,张统一.机械强度,2001;23:413) [2] Spaepen F. Acta Mater, 2000; 48: 31 [3] Brotzen F R. Int Mater Rev, 1994; 39: 24 [4] Ma D J, Xu K W, He J W. Acta Metall Sin, 1999; 35: 1049(马德军,徐可为,何家文.金属学报,1999;35:1049) [5] Bell T J, Field J S, Swain M V. Mater Res Soc Symp Proc, 1992; 239: 331 [6] Mearini G T, Hoffman R W. J Electron Mater, 1993; 22: 623 [7] D'Antonio C, Hirschhorn J, Tarshis L. Trans Metall Soc AIME, 1963; 227: 1346 [8] Karimi A, Shojaei O R, Kruml T, Martin J L. Thin Solid Films, 1997; 308: 334 [9] Doerner M F, Brennan S. J Appl Phys, 1988; 63: 126 [10] Ma D J, Xu K W, He J W, Lu J. Surf Coat Technol, 1999; 116-119: 128 [11] Li Z H, Wu G Y, Chen W R, Wang Y Y. J Vac Sci Technol, 1996; 14A: 2693 [12] Noyan I C, Sheikh G. Mater Res Soc Symp Proc, 1993; 308: 3 [13] David T R, James W D. J Mater Res, 1993; 8: 1542 [14] Li J B. Chin J Mater Res, 1998; 12: 287(李家宝.材料研究学报,1998;12:287) [15] Li J B, Liu F Z, Ji V. Surf Eng, 1998; 14: 4699 [1] 谢飞; 何家文 . 高速钢W18Cr4V离子渗氮层组织对TiN膜与基体结合强度的影响[J]. 金属学报, 2000, 36(10): 1099-1103 . [2] 于力;刘技文;赵杰;戴少侠;金柱京;王慧君. 基材温度对离子镀TiN膜性能的影响[J]. 金属学报, 1996, 32(12): 1270-1274. [3] 刘捍卫;陈元儒;张绪寿. 离子束辅助沉积TiN膜的摩擦学特性[J]. 金属学报, 1994, 30(19): 323-326. [4] 赵程;彭红瑞;李世直. 等离子体化学气相沉积Ti-N-C膜的研究[J]. 金属学报, 1993, 29(1): 87-92. [5] 李世直;徐翔. 等离子体化学气相沉积TiN膜的研究[J]. 金属学报, 1988, 24(3): 229-235. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed