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金属学报  1987, Vol. 23 Issue (1): 146-148    
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电沉积Ni-P非晶态合金晶化过程的研究
赵忠勇;姚进军;符斌
武汉材料保护研究所;武汉材料保护研究所;武汉材料保护研究所
ON THE CRYSTALLIZATION OF ELECTRODEPOSITED AMORPHOUS Ni-P ALLOY
ZHAO Zhongyong YAO Jinjun FU Bin (Wuhan Research Institute of Materials Protection)
引用本文:

赵忠勇;姚进军;符斌. 电沉积Ni-P非晶态合金晶化过程的研究[J]. 金属学报, 1987, 23(1): 146-148.
, , . ON THE CRYSTALLIZATION OF ELECTRODEPOSITED AMORPHOUS Ni-P ALLOY[J]. Acta Metall Sin, 1987, 23(1): 146-148.

全文: PDF(179 KB)  
摘要: <正> Bagley 和 Turnbull 指出含磷14.9wt-%的非晶 Ni-P 镀层在加热过程中,280和410℃有两次放热转变,分别对应非晶亚稳转变及 Ni_3P 相结晶转变.我们对含磷为15wt-%的 Ni-P 非晶镀层进行热分析时发现,在加热过程中有四次明显的放热转变,其对应的温度分别是280,310,343,410℃.为了确定这些放热转变对应的结构变化,本文对3组 Ni_(75)P_(25)试样进行不同热处理后,作 X射线衍射分析,发现310℃和343℃的两次放热转
Abstract:Four exothermal peaks at 280,310,343 and 410℃ are revealed on the crystallization of the electrodeposited amorphous Ni_(75)P_(25) film examined by DTA.X-ray diffraction shows that the exothermal peak at 310℃ corresponds with the phase transformation from the meta- stable phase α to ones α_1,α_2 and α_3,and peak at 343℃ is related to the adjustment of α_1, α_2 and α_3 each other.
收稿日期: 1987-01-18     
1 Bagley B G.Turnbull D.J Appl Phys,1968;39:5681
2 郭可信,梁金忠,孟宪英等.物理学报,1982,31:988
3 梁金忠,赖宗和,吴玉琨等,物理学报,1984;33:1037
4 赖宗和,吴玉琨,郭可信.物理学报,1984;33:1182
5 增井宽二,山田敏夫,久松,金属表面技术,1980;32(8) :28-34N
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