金属学报  2001, Vol. 37 Issue (2): 121-126

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非理想软X射线光学多层膜的掠入射镜向反射率

白海力　 何忠杰　 田仁玉　 姜恩永

天津大学理学院应用物理学系;天津300072

白海力; 何忠杰; 田仁玉; 姜恩永 . 非理想软X射线光学多层膜的掠入射镜向反射率[J]. 金属学报, 2001, 37(2): 121-126 .

摘要 参考文献 相关文章 Metrics 全文: PDF(313 KB)   摘要: 对实际软X射线光学多层膜中普遍存在的主要非理想因素(层厚漂移、界面粗糙度和界面扩散)进行了定量描述基于动力学光学理论,计算了上述非理想因素对软X射线光学多层膜的掠入射镜向反射率的影响结果表明:层厚的随机漂移使反射率、尤其是高级反射率降低;累积层厚漂移破坏了多层膜的长程有序性,使反射峰展宽;界面扩散和界面粗糙度使反射率降低,对高级反射率的影响更甚,但二者并不破坏多层膜的长程有序性,所以反射峰的宽度不变;界面扩散和界面粗糙度对反射率影响的机制不同;在界面扩散宽度和界面粗糙度相等的情况下,界面粗糙度使反射率下降显著用模拟退火Monte-Carlo方法对Co/C软X射线光学多层膜进行了结构评价.该方法能避免复杂的求导运算,在软X射线光学多层膜的结构评价中具有较强的实用性. 关键词 ： 软X射线光学多层膜,  层厚漂移,  界面粗糙度     Key words： 收稿日期: 2000-07-25      ZTFLH:  O485   服务 把本文推荐给朋友 加入引用管理器 E-mail Alert RSS 作者相关文章 白海力 何忠杰 田仁玉 姜恩永 44.8K 链接本文: https://www.ams.org.cn/CN/Y2001/V37/I2/121 [1] Spiller E, Wilczynski J, Steams D, Golub L, Nystrom G.Appl Phys Lett, 1989; 61: 1481 [2] Golub L, Herant M, Kalata K, Lovas I, Nystrom G, SpillerE, Wilczynski J. Nature, 1990; 344: 842 [3] Spiller E, Stearns D, Krumrey M. J Appl Phys, 1993; 74:107 [4] McClain B R, Lee D D, Carvalho B L, Mochrie S G J,Chen S H, Litster J D. Phys Rev Lett, 1994; 72: 246 [5] Stearns D G. J Appl Phys, 1989; 65: 491 [6] Barbee T W. Jr Opt Eng, 1990; 29: 711 [7] Barbee T W, Mrowka S, Hettrick M C. Appl Opt, 1985;24: 883 [8] Stearns D G, Rosen R S, Vernon S P. J Vac Technol, 1991;A9: 2662 [9] Fullerton E E, Pearson J, Sowers C H, Bader S D, Wu XZ, Sinha S K. Phys Rev, 1993; B48: 17432 [10] Zymierka D, Auletner J. Cryst Res Tech, 1997; 32: 135 [11] Kim D E, Lee S M, Jeon I J. J Vac Sci Technol, 1999;A17: 398 [12] Wang F P, Wang P X, Lu K Q, Fang Z Z, Gao M, DuanX F, Cui M Q, Ma H J, Jiang X M. J Appl Phys, 1999;85: 3175 [13] Krol A, Sher C, Kao Y H. Phys Rev, 1988; B38: 8579 [14] Chen H, Heald S M. J Appl Phys, 1989; 66: 1793 [15] Parrat L G. PhYS ReV, 1954; 35: 359 [16] Fullerton E E, Schuller I K, Vanderstraeton H, Bruynseraede Y. Phys Rev, 1992; B45: 929 [17] Sinha S K, Sirota E B, Garoff S, Stanley H B. Phys Rev,1988; B38: 2297 [18] Savage D E, Kleiner J, Schimke N, Phang Y H, JankowskiT, Jacobs J, Lagally M G. J Appl Phys, 1991; 69: 1411 [19] Steams D G. J Appl Phys, 1992; 71: 4286 [20] Kimball J C, Bittel D. J Appl Phys, 1993; 74: 877 [21] Gladyszewski G, Bruynseraede Y. Thin Solid Films, 1996;275: 184 [22] Kopecky M. J Appl Phys, 1995; 77: 2380 [23] Holy V, Kubena J, Ohlidal I, Lischka K, Plotz W. PhysRev, 1993; B47: 15896 [24] Holy V. Appl Phys, 1994; A58: 173 [25] Holy V, Baumbach T. Phys Rev, 1994; B49: 10668 [26] HolY V, Baumbach T, Bessiere M. J Phys D: Appl Phys,1995; 28(4A): A220 [27] de Bohr D K G, Leenaers A J G. Physsica, 1996; B221(14): 18 [28] Yoneda Y. Phys Rev, 1963; 131: 2010 [29] Bruson A, Dufour C, George B, Vergnant M, Marchal G,Mangin PH. Solid State Commun, 1989; 71: 1045 [30] Kirkpatrick S, Gelatt C D, Vecchi M P. Science, 1983;220: 671 [31] de Bohr D E G, Leenaers A J G, van den Hoogenhof W.Appl Phys, 1994; A58: 169 [32] Dietrich S, Haase A. Phys Rev, 1995; 260: 1~ [1] 王凤平;崔明启;王佩璇;方正知. 多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究[J]. 金属学报, 1996, 32(7): 774-778. Viewed Full text Abstract Cited   Shared      Discussed