N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响 |
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| 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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Effect of Nitrogen Doping on Microstructure and Wear Resistance of Tantalum Coatings Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering |
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| Shasha YANG,Feng YANG,Minghui CHEN,Yunsong NIU,Shenglong ZHU,Fuhui WANG | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 表1 Ta涂层的制备工艺参数 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Table 1 Deposition parameters of Ta and N-doped Ta coatings | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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