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2001年, 第37卷, 第5期 刊出日期:2001-05-18
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Mg3MNi2(M=Ti,Al)的晶体结构
吕光烈; 陈林深; 胡秀荣; 王连邦; 袁华堂
金属学报. 2001, 37 (5): 459-462 .
Al和Ti对Mg2Ni结构中部分Mg的取代,得到与Mg2Ni晶体结构不同的新型合金.多晶X射线结构分析表明,其化学式为Mg3MNi2(M=Ti,Al),立方晶系,空间群Fd3m,Z=16,48个Mg坐落在48(f),16个M(M=Al,Ti)坐落在16(d)位,32个Ni坐落在32(e)位,Mg3AlNi2的晶胞参数a=1.15474(2)nm,Mg3TiNi2的a=1.16178(2)nm.与Mg2Ni相比,Mg3MNi2合金的晶体密度更大,Mg-Ni键长更长,吸放氢温度降低,循环寿命延长.
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界面散射对Ni80Co20/M(M-Co,Cr,Ag)多层膜各向异性磁电阻的影响
何贤美; 童六牛
金属学报. 2001, 37 (5): 477-482 .
用磁控溅射方法制备了Ni80Co20/M(M=Co,Cr,Ag)多层膜样品系列,Co,Cr,Ag杂质层的标称厚度为0.1 nm,研究了界面散射对多层膜的磁及输运性质的影响.零场电阻率ρ的测量结果表明,对含Cr样品,p随杂质层间距L的依赖关系能较好的用Fuchs-Sondheimer(F-S)理论描述.而对含Co和Ag样品,ρ随L的依赖关系在L小于15 nm时开始偏离F-S理论.磁电阻测量表明,含Cr和Ag样品,各向异性磁电阻△ρ在L<15 nm时随L的减小陡然下降.对含磁性Co元素的样品,其△p值在L>15 nm时高于Ni80Co20单层薄膜的△ρ值;在L<15 nm时△p值随L呈现振荡变化的趋势.磁性测量表明,三个系列样品的矫顽力Hc在L<15 nm时都随L近似直线上升,在L>15 nm后趋于饱和;经400℃真空退火后Hc都显著下降.
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机械合金化合成NiAl/HfB2复合材料的组织与力学性能
杨福宝; 郭建亭; 周继扬
金属学报. 2001, 37 (5): 483-487 .
球磨Ni,Al,Hf和B元素粉末反应合成NiAl/HfB2复合材料,形成机制归结为机械碰撞诱发的自蔓延反应.采用热压和热等静压工艺将纳米双相复合粉末压制成较密实的块体材料,进而研究其微观组织与力学性能.结果表明"反应球磨+热压"制备的NiAl/HfB2复合材料基体晶粒细小,原位生成的弥散相颗粒主要分布于基体晶界,其强化效果显著而对塑性的削弱作用较小;不同温度下的压缩屈服强度均远高于铸态NiAl,且压缩变形量均超过10%;高温下材料的屈服强度依赖于应变速率,用线性回归方法计算出的应力指数n和变形激活能Q高于单相NiAl,与含弥散相比例较高的XD NiAl-20%TiB2(体积分数)复合材料相当.
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表面部分成膜金属阳极溶解模型及其振荡与混沌行为
李学良; 鲁道荣; 朱云贵; 何建波; 王华林
金属学报. 2001, 37 (5): 493-498 .
提出了金属表面生成MOH和MO两种膜的阳极溶解过程反应模型,导出了溶解反应动力学方程.对溶解过程中反应物浓度和表面覆盖度等系统状态变量的不动点进行了线性稳定性的分析,研究了不动点的稳定性.对模型的状态变量全局运动状态和行为进行了计算机模拟,研究了其中的振荡行为,分析了反应参数对动力学行为的影响.结果表明:模型中存在膜的生成与溶解导致溶解过程的复杂化,该动力学模型呈现十分丰富的振荡和混沌行为,反应速率常数的改变导致反应物由稳态至非稳态的变化,呈现出溶解离子浓度和表面膜覆盖度的周期性及非周期性振荡,非周期性振荡具有混沌的特性.探讨了溶解过程中物质浓度、MOH(ad)和MO(ad)的覆盖度随时间变化的动态特征,分析和讨论金属阳极溶解过程中基本规律.成膜过程中MO(ad)、金属基体M和反应生成MOH(ad),构成反应过程中的反馈,表征为反应中存在非线性及多种耦合作用模型中动力学速率常数等参数改变,使得耦合在适当的条件下得到强化,这是复杂振荡产生的主要原因.
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高强钢应力腐蚀门槛值随强度的变化规律
李会录; 惠卫军; 王燕斌; 董瀚; 翁宇庆; 褚武扬
金属学报. 2001, 37 (5): 512-516 .
恒位移试样测量表明,40CrMo钢在3.5%NaCl水溶液中应力腐蚀(SCC)门槛应力强度因子KISCC随屈服强度σs指数下降.即KISCC=1.38×106exp(-8.26×10-3σs).动态充氢时氢致开裂(HIC)门槛应力强度因子KIH随试样中可扩散氢浓度C0(10-6)的对数而线性下降,即KIH=31.1-9.1 ln C0.SCC时也遵循这个规律发生HIC型SCC的临界氢浓度Cth随σs指数下降,从而可导出KISCC=aκexp(-k2σs),其中a=3RT√πρ/2(1+v)VH,RT是热能,ρ是裂纹止裂时的曲率半径,VH是氢在钢中的偏摩尔体积,v为Poission比,k1和k2则是和成分及组织有关的常数.
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