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金属学报  1997, Vol. 33 Issue (6): 650-654    
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导致金刚石薄膜不均匀沉积的机理
霍晓;任家烈;鹿安理
清华大学;北京;100084;清华大学;北京;100084;清华大学;北京;100084
INVESTIGATION OF THE MECHANISM RESULTING IN THE NONUNIFORM DEPOSITION OF DIAMOND FILM
HUO Xiao; REN Jialie; Lu Anli (Tsinghua Universitv; Beijing 100084)
引用本文:

霍晓;任家烈;鹿安理. 导致金刚石薄膜不均匀沉积的机理[J]. 金属学报, 1997, 33(6): 650-654.
, , . INVESTIGATION OF THE MECHANISM RESULTING IN THE NONUNIFORM DEPOSITION OF DIAMOND FILM[J]. Acta Metall Sin, 1997, 33(6): 650-654.

全文: PDF(1060 KB)  
摘要: 以MPCVD法合成金刚石薄膜的实验结果为基础,深入分析了微波等离子体性质对金刚石薄膜沉积过程的影响,提出了解释金刚石薄膜不均匀沉积现象的新机理,即由微波等离子体中电子浓度的不均匀分布引起反应气相中过饱和原子氢浓度的不均匀分布所致
关键词 金刚石薄膜不均匀沉积机理    
Abstract:Based on the experimental results of depositing diamond film by MPCVDmethod, the effect of the characteristics of microwave induced plasma on the process of diamond deposition is thoroughly analysed. A new mechanism causing nonuniform diamonddeposition had been put forward, which considers the main factor to be the nonuniform distribution of supersaturated atomic hydrogen resulted from the nonuniform distribution ofelectrons in microwave induced plasma.
Key wordsdiamond film    nonuniform deposition    mechanism
收稿日期: 1997-06-18     
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