离子束溅射法制备Ti-Ni贮氢薄膜的研究

金属学报

1993, Vol. 29

Issue (1): 84-86

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离子束溅射法制备Ti-Ni贮氢薄膜的研究

张允什;胡伟康;王达;袁华堂;陈友孝

南开大学;南开大学;南开大学;南开大学;南开大学

PREPARATION OF Ti-Ni HYDROGEN STORAGE FILMS BY ION BEAM SPUTTERING

ZHANG Yunshi;HU Weikang;WANG Da;YUAN Huatang;CHEN Youxiao Nankai University; Tianjin

引用本文:

张允什;胡伟康;王达;袁华堂;陈友孝. 离子束溅射法制备Ti-Ni贮氢薄膜的研究[J]. 金属学报, 1993, 29(1): 84-86.
, , , , . PREPARATION OF Ti-Ni HYDROGEN STORAGE FILMS BY ION BEAM SPUTTERING[J]. Acta Metall Sin, 1993, 29(1): 84-86.

全文: PDF(236 KB)

摘要:

介绍了用离子束溅射制备贮氢薄膜的方法。采用钛板与镍板拼合靶制备的Ti—Ni薄膜为非晶态,具有良好的附着力和抗粉化能力,而晶化后的贮氢性能更好。

关键词 ：溅射, 贮氢薄膜, Ti-Ni合金

Abstract：

Ti-Ni alloy hydrogen storage films, but particularly amorphous one at roomtemperature, were prepared by ion beam sputtering method with a composite target of Ti andNi plate. The films have superior adhesion to substrate and anti-pulverizability. It was foundthat its hydrogen discharge capacity becomes higher after the amorphous film crystallized byannealing.

Key words： sputtering hydrogen storage Ti-Ni alloy film

收稿日期: 1993-01-18

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